[发明专利]成膜装置及成膜方法

说明书

本发明公开一种成膜装置及成膜方法，其用于形成薄膜，所述成膜装置包括：真空腔室；排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；成膜机构，其设置于所述真空腔室内；导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够在所述成膜机构的成膜过程中向所述真空腔室内导入含羟基气体。

技术领域

本发明涉及特别适于光学薄膜及功能性薄膜等的各种薄膜的成膜装置及成膜方法。

背景技术

在用于光学透镜及光学滤光器等光学材料中的光学薄膜(包括防反射膜)的领域中，其光学特性稍有降低就会使作为最终制品的特性发生显著降低。因而针对光学薄膜，希望提高其光学特性(例如光透过率等)。

另外，已知有经由以下所示的工序来对作为功能性薄膜一例的防污膜进行成膜的技术(专利文献1)。该方法为下述方法：首先将作为处理对象的两个以上的基板保持在基板支架的基板保持面的整个面上，之后使该基板支架在真空腔室内旋转。接下来，在维持该旋转的状态下，向着两个以上基板中的全部基板连续照射离子(离子的全面照射)，之后使由防污膜的形成原料构成的成膜材料向着通过离子照射而形成了表面凹凸的全部基板进行蒸发并使其附着(成膜材料的全面供给)。

通过以上的工序，可将防污膜堆积在两个以上基板中的全部基板的凹凸形成面上。若采用该方法，则能够形成具备可耐实用的耐磨耗性的防污膜(专利文献1的0029段落)；但近年来希望进一步提高针对防污膜的耐磨耗性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-90454号公报

发明内容

本发明的目的是提供可有效地进一步提高耐磨耗性且具有疏水、疏油、防污等各种特性的功能性薄膜的成膜装置及成膜方法。

为达到上述目的，本发明提供一种成膜装置，其用于形成薄膜，所述成膜装置包括：

真空腔室；

排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；

基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；

成膜机构，其设置于所述真空腔室内；

导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够在所述成膜机构的成膜过程中向所述真空腔室内导入含羟基气体。

一种成膜装置，其用于形成薄膜，所述成膜装置包括：

真空腔室；

排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；

基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；

成膜机构，其设置于所述真空腔室内；

导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够在所述成膜机构成膜后向所述真空腔室内导入含羟基气体。

一种成膜装置，其用于形成薄膜，所述成膜装置包括：

真空腔室；

排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；

基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；

成膜机构，其设置于所述真空腔室内；

导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够向所述基板导入含羟基气体；

移动机构,其通过使所述真空腔室内的基板保持机构移动,从而能够向所述基板间歇地供给两次以上的含羟基气体。