[发明专利]母模及其制造方法有效
| 申请号： | 201710171849.9 | 申请日： | 2017-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN106842825B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 曲连杰;王飞;齐永莲;赵合彬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张琛 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种母模的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成母模衬底层；在所述母模衬底层上形成适用于X射线曝光的掩膜层；和从所述掩膜层远离所述基底一侧对所述母模衬底层进行X射线曝光，其中，在所述X射线曝光过程中，X射线的照射方向与所述母模衬底层成预定倾斜角度。本公开还提供了一种母模。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种母模的制造方法，包括以下步骤：提供基底；在所述基底上形成母模衬底层；在所述母模衬底层上形成适用于X射线曝光的掩膜层；和从所述掩膜层远离所述基底一侧对所述母模衬底层进行X射线曝光，其中，在所述X射线曝光过程中，X射线的照射方向与所述母模衬底层成预定倾斜角度。
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