[发明专利]母模及其制造方法

权利要求书

1.一种母模的制造方法，包括以下步骤：

提供基底；

在所述基底上形成母模衬底层；

在所述母模衬底层上形成适用于X射线曝光的掩膜层；和

从所述掩膜层远离所述基底一侧对所述母模衬底层进行X射线曝光，

其中，在所述X射线曝光过程中，X射线的照射方向与所述母模衬底层成预定倾斜角度；并且

所述母模衬底层由适于X射线曝光工艺的负性光刻胶形成；

其中，从所述掩膜层远离所述基底一侧对所述母模衬底层进行X射线曝光的步骤包括：

沿与所述母模衬底层成第一预定倾斜角度的方向对所述母模衬底层照射X射线，以进行第一次曝光；和

沿与所述母模衬底层成第二预定倾斜角度的方向对所述母模衬底层照射X射线，以进行第二次曝光，

其中，所述第一预定倾斜角度不等于所述第二预定倾斜角度；

其中，所述掩膜层包括多个透光区域和多个遮光区域，该遮光区域能够阻挡X射线从其透过，并且，从所述掩膜层远离所述基底一侧对所述母模衬底层进行X射线曝光的步骤还包括：

调整所述第一预定倾斜角度和所述第二预定倾斜角度，使得：对于所述掩膜层的同一透光区域，经过所述第一次曝光和所述第二次曝光的所述母模衬底层的曝光区域之间形成有未曝光区域；

其中，所述未曝光区域沿平行于基底方向的尺寸小于所述掩膜层的一个透光区域沿平行于基底方向的尺寸。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一预定倾斜角度为小于90°的锐角，并且所述第二预定倾斜角度为90°～180°的钝角。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一预定倾斜角度和所述第二预定倾斜角度之和等于180°。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，在所述母模衬底层上形成适用于X射线曝光的掩膜层的步骤包括：

在所述母模衬底层上形成抗X射线材料层；和

通过一次构图工艺形成抗X射线材料层的图案，以形成包括多个透光区域和多个遮光区域的掩膜层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，通过一次构图工艺形成抗X射线材料层的图案的步骤包括：

在所述抗X射线材料层上涂覆光刻胶；

采用曝光和显影工艺形成光刻胶的图案；

刻蚀所述抗X射线材料层；和

去除所述光刻胶。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，在所述抗X射线材料层上涂覆的光刻胶为紫外光刻胶；并且，在采用曝光和显影工艺形成光刻胶的图案的步骤中，采用紫外光曝光涂覆的紫外光刻胶。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，在从所述掩膜层远离所述基底一侧对所述母模衬底层进行X射线曝光的步骤之后，所述方法还包括：

刻蚀所述掩膜层，同时对所述母模衬底层进行显影；或者，

刻蚀所述掩膜层，然后对所述母模衬底层进行显影。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述母模衬底层上形成的所述掩膜层是与所述母模衬底层直接接触的。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述基底上形成的所述母模衬底层的厚度为5μm以上。

10.一种母模，该母模为根据上述权利要求1至9中任一项所述的方法制成的母模。