[发明专利]正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用有效
申请号: | 201710122560.8 | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN107179652B | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 吴明儒;施俊安 | 申请(专利权)人: | 奇美实业股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/075 | 分类号: | G03F7/075;G02B1/14 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 姚亮 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关一种正型感光性聚硅氧烷组成物及由该感光性硅氧烷组成物所形成的保护膜,其用于形成TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材,所述保护膜具有耐热性佳的特性。该正型感光性硅氧烷组成物包含聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)及膦类(phosphine)化合物(D)。 | ||
搜索关键词: | 感光性 聚硅氧烷 组成 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种正型感光性聚硅氧烷组成物,其包含:聚硅氧烷(A);邻萘醌二叠氮磺酸酯(B);溶剂(C);及膦类化合物(D);其中,所述膦类化合物(D)包括至少一选自由三烷基膦化合物、三芳基膦化合物及膦盐所组成的群组。
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