[发明专利]正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用

权利要求书

1.一种正型感光性聚硅氧烷组成物，其包含：

聚硅氧烷(A)；

邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；

溶剂(C)；及

膦类化合物(D)；

其中，所述膦类化合物(D)包括至少一选自由三烷基膦化合物、三芳基膦化合物及膦盐所组成的群组；基于所述聚硅氧烷(A)的使用量为100重量份，所述膦类化合物(D)的使用量为0.1至3重量份；所述聚硅氧烷(A)至少是由式(I-1)所示的硅烷单体(a-1)聚缩合而得：

Si(R^a)_w(OR^b)_4-w 式(I-1)

其中：

R^a各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基，且至少一个R^a表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基；

R^b各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；及

w表示1至3的整数。

2.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其中，该感光性聚硅氧烷组成物进一步包含一无机粒子(E)，所述无机粒子(E)是以第四族元素的氧化物为主成分。

3.根据权利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其中，所述无机粒子(E)中的所述第四族元素为钛或锆。

4.根据权利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其中，所述无机粒子(E)的粒径大小为1 nm至60 nm。

5.根据权利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其中，基于所述聚硅氧烷(A)的使用量为100重量份，所述无机粒子(E)的使用量为30至300重量份。

6.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组成物，其中，基于所述聚硅氧烷(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为5至50重量份；及所述溶剂(C)的使用量为100至600重量份。

7.一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用根据权利要求1至6中任一项所述的正型感光性聚硅氧烷组成物施予所述基板上。

8.一种基板上的薄膜，其是由权利要求7所述的方法所制得。

9.根据权利要求8所述的薄膜，其是为液晶显示元件或有机电激发光显示器中TFT基板用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的保护膜。

10.一种液晶显示元件、有机电激发光显示器或光波导路，其包含根据权利要求8或9所述的薄膜。