[发明专利]正型感光性聚硅氧烷组成物及其应用

说明书

本发明是有关一种正型感光性聚硅氧烷组成物及由该感光性硅氧烷组成物所形成的保护膜，其用于形成TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材，所述保护膜具有耐热性佳的特性。该正型感光性硅氧烷组成物包含聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)及膦类(phosphine)化合物(D)。

技术领域

本发明是有关于一种适用于液晶显示元件、有机EL显示元件等的TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的正型感光性硅氧烷组成物，及由其形成的保护膜、及具有该保护膜的元件。特别是提供一种耐热性佳的正型感光性聚硅氧烷组成物、其所形成的保护膜，以及具有保护膜的元件。

背景技术

近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于微影工艺中所需的图案的微细化亦要求日高。为了达到微细化的图案，一般是通过具有高解析及高感度的正型感光性材料经曝光及显影而形成，其中，以聚硅氧烷聚合物为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。

在液晶显示器或有机电激发光显示器中，层状配线间通常会配置层间绝缘膜以作为绝缘。正型感光性材料由于获得图案形状的必要工序数较少，同时，所获得的绝缘膜平坦度佳，故被广泛使用于形成层间绝缘膜的材料。

例如，用于液晶显示器的层间绝缘膜，其形成微细配线的接触孔的图案是必要的。而实际上，负型感光性组成物形成的接触孔，达可使用水准的孔径十分困难，因此，业界广泛使用正型感光性组合物，以形成液晶显示元件的层间绝缘膜(如日本特开2001-354822号所示)。

一般作为形成层间绝缘膜的正型感光性组合物的主要成分为丙烯酸类树脂，但使用硅氧烷类材料的感光性组合物，其耐热性及透明性皆较使用丙烯酸类树脂材料的感光性组合物佳(如日本特开2000-1648号所示)。

然而，硅烷化合物或聚硅氧烷的聚硅氧烷类材料，因其本身易与同类或不同类化合物产生水解缩合反应。在制备正型感光性组合物时，这些副反应的发生会导致该正型感光性组合物的保存稳定性变差，其产品的寿命亦会缩短。

为抑制上述的缩合反应，业界已开发通过控制聚硅氧烷的分子量以及分枝结构以抑制缩合反应。日本特开2003-163209号公开了通过酸催化剂、金属螯合物和碱催化剂的作用可得到不同分子量的聚硅氧烷以控制该聚硅氧烷的结构。然而，上述公报虽然公开了聚硅氧烷的各种分子量，但其并未考虑到该聚硅氧烷的感光特性；除介电常数外，也未考虑到层间绝缘膜的各种特性。

在此情况下，日本特开2011-123450号公开了一种正型感光性聚硅氧烷组成物，其具有优异的感光性、保存稳定性及耐熔体流动性，然而，该正型感光性树脂组成物的耐热性不佳，故无法令业界所接受。

因此，如何同时达到目前业界对耐热性的要求，为本发明所属技术领域中努力研究的目标。

发明内容

本发明利用提供特殊聚硅氧烷聚合物、邻萘醌二叠氮磺酸酯及膦类化合物(phosphine)的成分，而得到耐热性佳的正型感光性聚硅氧烷组成物。

因此，本发明提供一种正型感光性聚硅氧烷组成物，其包含：

聚硅氧烷(A)；

邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；

溶剂(C)；及

膦类化合物(D)；

其中，所述膦类化合物(D)包括至少一选自由三烷基膦化合物、三芳基膦化合物及膦盐所组成的群组。

本发明亦提供一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用前述的正型感光性聚硅氧烷组成物施予所述基板上。

本发明又提供一种基板上的薄膜，其是由前述的方法所制得。

本发明再提供一种装置，其包含前述的薄膜。