[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710079294.5 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN106814498B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 许卓;白雅杰;郭建东;刘珠林;张手强;王谦;方琰;张加勤 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种显示装置及其制造方法,属于液晶显示技术领域。显示装置包括背光模组和显示面板,显示面板包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板,背光模组包括背光源和反射片,背光源设置在反射片与阵列基板之间;阵列基板包括第一衬底基板以及设置在第一衬底基板靠近彩膜基板的一侧的反射图形,彩膜基板包括第二衬底基板以及设置在第二衬底基板靠近阵列基板的一侧的黑矩阵图形,黑矩阵图形在阵列基板上的正投影将反射图形覆盖;其中,背光源发射出的光线在反射图形与反射片之间反射后,能够通过黑矩阵图形的开口区域从彩膜基板射出。本发明解决了显示面板的透光率较低的问题,提高了显示面板的透光率。本发明用于液晶显示装置。
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括背光模组和显示面板,所述显示面板包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板,所述背光模组包括背光源和反射片,所述背光源设置在所述反射片与所述阵列基板之间;所述阵列基板包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧的反射图形,所述彩膜基板包括第二衬底基板以及设置在所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧的黑矩阵图形,所述黑矩阵图形在所述阵列基板上的正投影将所述反射图形覆盖;其中,所述背光源发射出的光线在所述反射图形与所述反射片之间反射后,能够通过所述黑矩阵图形的开口区域从所述彩膜基板射出;所述反射图形包括金属反射图形,所述阵列基板还包括金属图形,所述反射图形与所述金属图形位于同一层,且所述反射图形与所述金属图形通过一次构图工艺形成;所述金属图形包括源漏极金属图形,所述源漏极金属图形包括源极和漏极,且所述源极包括延伸图形,所述反射图形包括空白反射图形和所述延伸图形;所述阵列基板还包括:栅极金属图形和公共电极线金属图形,所述空白反射图形在所述第一衬底基板上的正投影位于所述栅极金属图形在所述第一衬底基板上的正投影与所述公共电极线金属图形在所述第一衬底基板上的正投影之间。
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