[发明专利]显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括背光模组和显示面板，

所述显示面板包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板，所述背光模组包括背光源和反射片，所述背光源设置在所述反射片与所述阵列基板之间；

所述阵列基板包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧的反射图形，所述彩膜基板包括第二衬底基板以及设置在所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧的黑矩阵图形，所述黑矩阵图形在所述阵列基板上的正投影将所述反射图形覆盖；

其中，所述背光源发射出的光线在所述反射图形与所述反射片之间反射后，能够通过所述黑矩阵图形的开口区域从所述彩膜基板射出；

所述反射图形包括金属反射图形，所述阵列基板还包括金属图形，所述反射图形与所述金属图形位于同一层，且所述反射图形与所述金属图形通过一次构图工艺形成；

所述金属图形包括源漏极金属图形，所述源漏极金属图形包括源极和漏极，且所述源极包括延伸图形，所述反射图形包括空白反射图形和所述延伸图形；

所述阵列基板还包括：栅极金属图形和公共电极线金属图形，所述空白反射图形在所述第一衬底基板上的正投影位于所述栅极金属图形在所述第一衬底基板上的正投影与所述公共电极线金属图形在所述第一衬底基板上的正投影之间。

2.一种显示装置的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

将阵列基板和彩膜基板对盒成型，得到显示面板，所述阵列基板包括第一衬底基板以及形成在所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧的反射图形，所述彩膜基板包括第二衬底基板以及形成在所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧的黑矩阵图形，所述黑矩阵图形在所述阵列基板上的正投影将所述反射图形覆盖；

形成背光模组，所述背光模组包括背光源和反射片；

将所述背光模组设置在所述显示面板的阵列基板所在侧，使所述背光源位于所述反射片与所述阵列基板之间；

其中，所述背光源发射出的光线在所述反射图形与所述反射片之间反射后，能够通过所述黑矩阵图形的开口区域从所述彩膜基板射出；

所述反射图形包括金属反射图形，所述阵列基板还包括金属图形，形成阵列基板，包括：

在所述第一衬底基板上形成金属膜层，通过一次构图工艺对所述金属膜层进行处理，得到第一金属图形层，所述第一金属图形层包括所述反射图形和所述金属图形；

所述金属图形包括源漏极金属图形，所述阵列基板还包括：栅极金属图形和公共电极线金属图形，形成阵列基板，包括：

在所述第一衬底基板上形成第二金属图形层，所述第二金属图形层包括栅极金属图形和公共电极线金属图形；

在形成有所述第二金属图形层的第一衬底基板上形成所述第一金属图形层，所述第一金属图形层包括所述反射图形和所述源漏极金属图形，所述源漏极金属图形包括源极和漏极，所述源极包括延伸图形，所述反射图形包括空白反射图形和所述延伸图形，所述空白反射图形在所述第一衬底基板上的正投影位于所述栅极金属图形在所述第一衬底基板上的正投影与所述公共电极线金属图形在所述第一衬底基板上的正投影之间。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述将阵列基板和彩膜基板对盒成型之前，所述方法还包括：分别形成所述阵列基板和所述彩膜基板。