[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710079294.5 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN106814498B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 许卓;白雅杰;郭建东;刘珠林;张手强;王谦;方琰;张加勤 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

发明公开一种显示装置及其制造方法,属于液晶显示技术领域。显示装置包括背光模组和显示面板,显示面板包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板,背光模组包括背光源和反射片,背光源设置在反射片与阵列基板之间;阵列基板包括第一衬底基板以及设置在第一衬底基板靠近彩膜基板的一侧的反射图形,彩膜基板包括第二衬底基板以及设置在第二衬底基板靠近阵列基板的一侧的黑矩阵图形,黑矩阵图形在阵列基板上的正投影将反射图形覆盖;其中,背光源发射出的光线在反射图形与反射片之间反射后,能够通过黑矩阵图形的开口区域从彩膜基板射出。本发明解决了显示面板的透光率较低的问题,提高了显示面板的透光率。本发明用于液晶显示装置。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域,特别涉及一种显示装置及其制造方法。

背景技术

随着液晶显示技术的不断发展,液晶显示装置广泛应用于显示领域,液晶显示装置通常可以包括薄膜晶体管液晶显示器(英文:Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay;简称:TFT-LCD)。

相关技术中,液晶显示装置包括显示面板和背光模组,显示面板包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板,以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。其中,彩膜基板包括衬底基板以及依次形成在衬底基板上的黑矩阵(英文:Black Matrix;简称:BM)图形和彩色滤光层,彩色滤光层包括多个彩色滤光单元,黑矩阵图形包括多个黑矩阵,任意相邻的两个黑矩阵之间具有一个开口区域,每个开口区域内设置有一个彩色滤光单元;背光模组包括背光源,背光源发射出的光线能够依次经过阵列基板、液晶层和彩膜基板,并从彩膜基板射出。背光源发射出的光线在经过彩膜基板时,到达彩色滤光单元的光线被彩色滤光单元滤光产生彩色光线并从彩膜基板射出,到达黑矩阵的光线则被黑矩阵吸收而无法从彩膜基板射出。

在实现本发明的过程中,发明人发现相关技术至少存在以下问题:由于到达黑矩阵的光线无法从彩膜基板射出,因此显示面板的透光率较低。

发明内容

为了解决显示面板的透光率较低的问题,本发明提供一种显示装置及其制造方法。所述技术方案如下:

第一方面,提供一种显示装置,所述显示装置包括背光模组和显示面板,

所述显示面板包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板,所述背光模组包括背光源和反射片,所述背光源设置在所述反射片与所述阵列基板之间;

所述阵列基板包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧的反射图形,所述彩膜基板包括第二衬底基板以及设置在所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧的黑矩阵图形,所述黑矩阵图形在所述阵列基板上的正投影将所述反射图形覆盖;

其中,所述背光源发射出的光线在所述反射图形与所述反射片之间反射后,能够通过所述黑矩阵图形的开口区域从所述彩膜基板射出。

可选地,所述反射图形包括金属反射图形,所述阵列基板还包括金属图形,所述反射图形与所述金属图形位于同一层。

可选地,所述反射图形与所述金属图形通过一次构图工艺形成。

可选地,所述金属图形包括栅极金属图形、公共电极线金属图形和源漏极金属图形中的任意一种。

可选地,所述金属图形包括源漏极金属图形,所述源漏极金属图形包括源极和漏极,且所述源极包括延伸图形,所述反射图形包括空白反射图形和所述延伸图形;

所述阵列基板还包括:栅极金属图形和公共电极线金属图形,所述空白反射图形在所述第一衬底基板上的正投影位于所述栅极金属图形在所述第一衬底基板上的正投影与所述公共电极线金属图形在所述第一衬底基板上的正投影之间。

第二方面,提供一种显示装置的制造方法,所述方法包括:

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