[发明专利]多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用有效
| 申请号： | 201710078935.5 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN106866732B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 许辉;张静;韩春苗 | 申请（专利权）人： | 黑龙江大学 |
| 主分类号： | C07F9/50 | 分类号： | C07F9/50;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54;C09B57/10 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 高倩;刘冰 |
| 地址： | 150080 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用，本发明涉及一类多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用。本发明的是为了解决前存在的磷光和热激发延迟荧光染料激子累积所导致的猝灭效应，导致器件性能和稳定性差的技术问题，该染料以多齿膦配体和AgX配位构成，方法如下：将1mmol多齿膦配体、0.5～1mmol的AgX、5～10ml的DCM混合，40℃反应10～36小时后，旋干，以DCM和PE为淋洗剂柱层析纯化，得到多齿膦配位银配合物。本材料具有双发射的特点，最大限度的降低激子的累积，提高器件效率，抑制器件的效率滚降。实现在电致发光过程中最大利用。 | ||
| 搜索关键词： | 多齿膦配位银 配合 发射 染料 合成 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
多齿膦配位银配合物双发射染料，其特征在于该染料以多齿膦配体和AgX配位构成，分子结构通式如下：所述多齿膦配体为DPNAP、DPA、PPADP、PPPADP、DPAP，其中X为Cl、Br或I。
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