[发明专利]多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用有效
| 申请号： | 201710078935.5 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN106866732B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 许辉;张静;韩春苗 | 申请（专利权）人： | 黑龙江大学 |
| 主分类号： | C07F9/50 | 分类号： | C07F9/50;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54;C09B57/10 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 高倩;刘冰 |
| 地址： | 150080 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多齿膦配位银 配合 发射 染料 合成 方法 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1.多齿膦配位银配合物双发射染料，其特征在于该染料以多齿膦配体和AgX配位构成，分子结构通式如下：所述多齿膦配体为DPNAP、DPA、PPADP、PPPADP、DPAP，其中X为Cl、Br或I。
2.权利要求1所述多齿膦配位银配合物双发射染料合成方法，其特征在于该染料合成方法如下：
将1mmol多齿膦配体、0.5～1mmol的AgX、5～10ml的DCM混合，40℃反应10～36小时后，旋干，以DCM和PE为淋洗剂柱层析纯化，得到多齿膦配位银配合物；
所述多齿膦配体为DPNAP、DPA、PPADP、PPPADP、DPAP，其中X为Cl、Br或I。
3.根据权利要求2所述多齿膦配位银配合物双发射染料合成方法，其特征在于所述的多齿膦配体与AgX的物质的量比为(1～2)﹕1。
4.根据权利要求2所述多齿膦配位银配合物双发射染料合成方法，其特征在于所述的多齿膦配体与AgX的物质的量比为1﹕1。
5.根据权利要求2所述多齿膦配位银配合物双发射染料合成方法，其特征在于所述的DCM和PE的混合溶剂中DCM与PE的体积比为1﹕20。
6.权利要求1所述多齿膦配位银配合物双发射染料应用，其特征在于所述多齿膦配位银配合物双发射染料作为发光层用于制备电致发光器件。
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