[发明专利]绝缘栅双极型晶体管及其形成方法在审
申请号: | 201710073772.1 | 申请日: | 2017-02-10 |
公开(公告)号: | CN108417621A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 袁雷兵 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L21/331;H01L29/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 徐文欣;吴敏 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种绝缘栅双极型晶体管及其形成方法,其中,晶体管包括:衬底,所述衬底包括:器件区和集电区,所述器件区包括:控制区和关断区;位于所述控制区和关断区衬底中的漂移区,所述漂移区与所述集电区接触;位于所述控制区和关断区衬底中的阱区;位于所述控制区的第一栅极结构,所述第一栅极结构与所述漂移区和阱区接触;位于所述控制区衬底中的发射区,所述发射区位于所述第一栅极结构一侧和两侧,所述漂移区与所述发射区以所述阱区隔离,所述发射区与所述关断区的阱区电连接;位于所述集电区衬底中的集电区。所述关断区阱区会从所述漂移区中抽取空穴,从而增加所形成绝缘栅双极型晶体管的关断速度,降低关断能耗。 | ||
搜索关键词: | 关断 衬底 控制区 漂移区 阱区 发射区 集电区 绝缘栅双极型晶体管 栅极结构 器件区 空穴 电连接 晶体管 抽取 能耗 隔离 | ||
【主权项】:
1.一种绝缘栅双极型晶体管,其特征在于,包括:衬底,所述衬底包括:器件区和集电区,所述器件区和集电区在垂直于所述衬底表面的方向上叠层设置,所述器件区衬底包括:控制区和关断区,所述控制区和关断区在平行于所述衬底表面的方向上设置;位于所述控制区和关断区衬底中的漂移区,所述漂移区与所述集电区接触;位于所述控制区和关断区衬底中的阱区,所述阱区与漂移区接触;位于所述控制区内的第一栅极结构,所述第一栅极结构与所述漂移区和阱区接触;位于所述控制区阱区中的发射区,所述发射区位于所述第一栅极结构一侧或两侧的衬底中,所述漂移区与所述发射区以所述阱区隔离,所述发射区与所述关断区的阱区电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710073772.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种氧化物绝缘体薄膜及薄膜晶体管
- 下一篇:IGBT器件
- 同类专利
- 专利分类