[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号: | 201710060663.6 | 申请日: | 2017-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN107022754B | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
| 发明(设计)人: | 加藤寿;大泉行雄;本间学;小林健 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/40;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种基板处理装置,其设置在处理容器内,一边于在旋转台的一个面侧载置有基板的状态下使其旋转而使基板公转、一边向该基板供给处理气体而进行处理,其中,该基板处理装置包括:载置台,用于载置所述基板;以及磁力齿轮机构,其具有经由在沿着所述旋转台的旋转轴的方向上延伸的自转轴连结于所述载置台并用于使所述载置台自转的从动齿轮部和用于驱动该从动齿轮部的驱动齿轮部,所述驱动齿轮部以使驱动面和所述从动齿轮的从动面相对的方式配置,为了使形成于所述驱动面和所述从动面之间的磁力线移动而使所述从动齿轮旋转,所述驱动齿轮部连接于使所述驱动面移动的驱动部。 | ||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置,其设置在处理容器内,在绕旋转轴旋转的旋转台的一个面侧载置基板,一边通过使所述旋转台旋转而使基板公转、一边向该基板供给处理气体而进行处理,该基板处理装置的特征在于,该基板处理装置包括:载置台,其设置为绕自转轴自转自如,用于载置所述基板,该自转轴在沿着所述旋转台的旋转轴的方向上延伸;以及磁力齿轮机构,其具有用于使所述载置台绕自转轴自转的从动齿轮部和用于驱动该从动齿轮部的驱动齿轮部,所述从动齿轮部经由所述自转轴连结于所述载置台,设为沿着使该载置台自转的方向旋转自如,并且具有从动面,该从动面在与设置于所述驱动齿轮部侧的驱动面之间形成有磁力线,所述驱动齿轮部以使所述驱动面与随着所述旋转台的旋转而移动的所述从动齿轮的通过移动轨道上的预先设定好的位置的从动面相对的状态配置,而且为了使所述磁力线移动而使从动齿轮旋转,该驱动齿轮部连接于用于使所述驱动面移动的驱动部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710060663.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:防近视课桌
- 下一篇:支架干衣洗衣机保温罩
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





