[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号: | 201710060663.6 | 申请日: | 2017-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN107022754B | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
| 发明(设计)人: | 加藤寿;大泉行雄;本间学;小林健 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/40;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,其设置在处理容器内,在绕旋转轴旋转的旋转台的一个面侧载置基板,一边通过使所述旋转台旋转而使基板公转、一边向该基板供给处理气体而进行处理,该基板处理装置的特征在于,
该基板处理装置包括:
载置台,其设置为绕自转轴自转自如,用于载置所述基板,该自转轴在沿着所述旋转台的旋转轴的方向上延伸;以及
磁力齿轮机构,其具有用于使所述载置台绕自转轴自转的从动齿轮部和用于驱动该从动齿轮部的驱动齿轮部,
所述从动齿轮部经由所述自转轴连结于所述载置台,设为沿着使该载置台自转的方向旋转自如,并且具有从动面,该从动面在与设置于所述驱动齿轮部侧的驱动面之间形成有磁力线,
所述驱动齿轮部以使所述驱动面与随着所述旋转台的旋转而移动的所述从动齿轮的通过移动轨道上的预先设定好的位置的从动面相对的状态配置,而且为了使所述磁力线移动而使从动齿轮旋转,该驱动齿轮部连接于用于使所述驱动面移动的驱动部,
其中,所述从动齿轮部是以其中心轴线与所述自转轴一致的方式连结于所述载置台的圆柱,所述从动面形成在该圆柱的侧周面,
所述驱动齿轮部是绕旋转中心旋转的圆板,所述驱动面形成在该圆板的一个面侧,
所述驱动部具备用于使所述圆板绕旋转中心旋转驱动的驱动轴,该驱动轴以沿着与所述自转轴交叉的方向延伸的方式配置。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
在所述从动齿轮部的从动面和所述驱动齿轮部的驱动面设有极性互不相同的永久磁体,在这些极性不同的永久磁体之间形成有所述磁力线。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中,
在所述从动齿轮部的从动面沿着该从动齿轮部的旋转方向交替地配置有极性不同的永久磁体,
在所述驱动齿轮部的驱动面沿着该驱动面的移动方向交替地配置有极性不同的永久磁体。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
在所述从动齿轮部的从动面的一侧和所述驱动齿轮部的驱动面的一侧设有永久磁体,在这些从动面的另一侧和驱动面的另一侧设有用于在与所述永久磁体之间形成所述磁力线的强磁性体。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述旋转台构成为每单位时间的旋转量增减自如,
所述驱动部具备位置调节部,为了随着所述旋转台的旋转量变大而减小形成有所述磁力线的驱动面和从动面之间的间隔,该位置调节部用于调节驱动齿轮的配置位置。
6.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
在所述从动齿轮部的周围设有具备制动面的制动部,该制动面用于通过在其与该从动面之间形成比形成在所述从动面和所述驱动齿轮部的驱动面之间的磁力线弱的磁力线而使通过了与所述驱动面相对的位置之后的所述从动齿轮停止旋转。
7.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
在所述旋转台的旋转轴设有用于支承所述自转轴的支承部,在所述旋转台形成有供支承于所述支承部的自转轴插入的开口部,所述载置台以相对于所述旋转台独立的状态由插入到该开口部的自转轴支承。
8.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述驱动齿轮部构成为绕中心轴线旋转而驱动面沿着旋转方向移动,并将旋转速度设定在以所述旋转台旋转一周时的载置台的自转角度变为0°的驱动齿轮部的旋转速度为中心而驱动齿轮部的旋转速度和所述自转角度成大致比例关系的范围内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





