[发明专利]蚀刻辅助特征

摘要

提供一种工艺，该工艺包括：获得布局，所述布局至少部分地指定通过图案化过程和蚀刻过程转移到衬底上的图案；以及利用一个或更多个处理器修改所述布局以包括蚀刻辅助特征，该蚀刻辅助特征大于图案化过程的分辨率极限且小于蚀刻过程的分辨率极限，该蚀刻辅助特征配置成减小图案化过程或蚀刻过程的偏差，以减小所述布局中的特征的归因于蚀刻过程的蚀刻诱发移位，或者扩展另一个图案化过程的过程窗口。

主权项

1.一种方法，包括：获得布局，所述布局至少部分地指定将通过图案化过程和蚀刻过程转移到衬底上的图案；和利用一个或更多个处理器修改所述布局以包括蚀刻辅助特征，所述蚀刻辅助特征大于所述图案化过程的分辨率极限且小于所述蚀刻过程的分辨率极限，所述蚀刻辅助特征配置成减小所述图案化过程或所述蚀刻过程的偏差，以减小所述布局中的特征的由于所述蚀刻过程而导致的蚀刻诱发移位，或者扩展另一个图案化过程的过程窗口。