[发明专利]用于VHF-RF PVD腔室中的预涂覆的屏蔽物在审
| 申请号： | 201680073063.7 | 申请日： | 2016-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN108884559A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 刘振东;侯文婷;雷建新;翁建业;吕明谕 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式涉及用于在处理腔室中使用的改良的屏蔽物。在一个实施方式中，所述屏蔽物包括具有圆柱形状的中空主体和形成在主体的内表面上的涂覆层，所述圆柱形状大致上关于所述主体的中心轴对称。涂覆层由与在所述处理腔室中使用的溅射靶相同的材料形成。屏蔽物通过减少屏蔽物与溅射靶之间的发弧而有利地减少使用RF‑PVD沉积的膜中的颗粒污染物。发弧因屏蔽物的内表面上存在涂覆层而减少。 | ||
| 搜索关键词： | 屏蔽物 涂覆层 处理腔室 圆柱形状 溅射靶 内表面 颗粒污染物 中心轴对称 材料形成 中空主体 预涂覆 腔室 沉积 改良 | ||
【主权项】：
1.一种在物理气相沉积处理腔室中使用的屏蔽物，包含：中空主体，具有圆柱形状，所述圆柱形状大体上关于所述中空主体的中心轴对称，所述主体具有内表面和外表面；和涂覆层，形成在所述主体的所述内表面上，所述涂覆层包含金属、金属氧化物、金属合金或磁性材料。
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