[发明专利]用于在光刻设备中处理衬底的方法和设备有效
| 申请号： | 201680069983.1 | 申请日： | 2016-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN108292111B | 公开（公告）日： | 2020-03-20 |
| 发明（设计）人： | C·桑切斯-法布里斯科巴里德;F·G·C·比基恩;E·M·胡尔塞布斯;A·J·登鲍埃夫;M·H·M·比姆斯;P·M·斯托拉日 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光刻设备具有衬底位于上面的衬底台和用于测量衬底的对准的对准传感器。在示例性处理方法中，对准传感器用于在第一步骤中执行一个或更多个边缘测量。在第二步骤中，在衬底的凹口上执行一个或更多个边缘测量。边缘测量值然后用于在光刻设备中对准衬底。在具体的示例中，衬底相对于对准传感器布置，以使得边缘表面的一部分被定位在透镜的焦距处。当对准传感器检测被透镜的焦距处的边缘表面散射的辐射时，检测衬底的边缘的存在。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 处理 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在光刻设备中处理衬底的方法，其中所述衬底被定位在衬底台上，所述衬底台被配置成相对于图案化的辐射束移动，以便以可控制方式将所述衬底由图案化的辐射束曝光，所述衬底包括边缘和凹口；以及其中所述处理包括：确定指示所述边缘的第一位置的一个或更多个第一量；确定指示所述凹口的第二位置的一个或更多个第二量；以及基于所述一个或更多个第一量和所述一个或更多个第二量在所述光刻设备中对准所述衬底。
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