[发明专利]用于在光刻设备中处理衬底的方法和设备

权利要求书

1.一种在光刻设备中处理衬底的方法，其中

所述衬底被定位在衬底台上，所述衬底台被配置成相对于图案化的辐射束移动，从而以便以可控制方式由图案化辐射束曝光所述衬底，所述衬底包括边缘和凹口；以及

其中所述处理包括：

确定指示所述衬底的边缘的第一位置的一个或更多个第一量；

确定指示所述凹口的第二位置的一个或更多个第二量；以及

基于所述一个或更多个第一量和所述一个或更多个第二量在所述光刻设备中对准所述衬底；以及

其中所述光刻设备包括具有焦距、焦点的检测器，所述检测器被布置成检测被位于所述焦点处的物体散射的光，并且其中确定一个或更多个第一量的步骤包括：

相对于所述检测器布置所述衬底，使得所述衬底的表面的距离小于所述检测器的焦距，并且使得所述检测器与所述衬底的边缘的至少第一部分之间的距离大致等于所述检测器的焦距；

照射所述衬底的边缘；

接收被所述衬底的边缘散射的光；以及

当检测器接收被所述衬底的边缘的第一部分散射的光时，检测所述边缘的存在。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，确定一个或更多个第一量的步骤包括：确定在所述衬底的边缘的多个点的位置。

3.根据权利要求2所述的方法，进一步包括以下步骤：确定所述衬底的中心位置。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其中确定一个或更多个第二量包括：确定在所述凹口的边缘上的多个点的位置。

5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括以下步骤：

基于确定的多个点得出所述凹口的中心位置；和

基于所述凹口的中心位置得出所述衬底的取向。

6.根据权利要求4所述的方法，其中确定一个或更多个第二量的步骤包括：

相对于所述检测器布置所述衬底，使得所述衬底的表面的距离小于所述检测器的焦距，并且使得所述检测器与所述凹口的边缘的至少第一部分之间的距离大致等于所述检测器的焦距；

照射所述凹口的边缘；

接收被所述凹口的边缘散射的光；以及

当检测器接收被所述凹口的边缘的所述第一部分散射的光时，检测所述凹口的所述边缘的存在。

7.一种光刻设备，包括：

用于容纳衬底的衬底台，所述衬底台能够操作以相对于图案化的辐射束移动，以便以可控制的方式将所述衬底由所述图案化的辐射束曝光，所述衬底包括边缘和凹口；

光学系统，所述光学系统能够操作以：

确定指示所述衬底的边缘的第一位置的一个或更多个第一量；和能够操作以

确定指示所述凹口的第二位置的一个或更多个第二量，其中

所述衬底台进一步能够操作以基于所述一个或更多个第一量和所述一个或更多个第二量在所述光刻设备中对准所述衬底；

具有焦距、焦点的检测器，所述检测器能够操作以检测被位于所述焦点处的物体散射的光；

其中所述衬底台能够操作以相对于所述检测器布置衬底，使得所述衬底的表面的距离小于所述检测器的焦距，并使得所述检测器与所述衬底的边缘的至少第一部分之间的距离大致等于所述检测器的焦距；和

其中所述光学系统进一步能够操作以：

照射所述衬底的边缘；

接收被所述衬底的边缘散射的光；以及

当检测器接收被所述衬底的边缘的第一部分散射的光时，检测所述衬底的所述边缘的存在。

8.根据权利要求7所述的光刻设备，其中，所述光学系统进一步地能够操作以确定在所述衬底的所述边缘上的多个点的位置。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，所述光学系统进一步地能够操作以确定所述衬底的中心位置。

10.根据权利要求8或9所述的光刻设备，其中，所述光学系统进一步地能够操作以确定在所述凹口的边缘上的多个点的位置。