[发明专利]高度检测装置及搭载该高度检测装置的涂敷装置有效
申请号: | 201680066070.4 | 申请日: | 2016-11-08 |
公开(公告)号: | CN108291802B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 大庭博明 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 周蓉;钱慰民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 高度检测装置(1)一边相对于膏膜(53)在光轴方向上移动双光束干涉物镜(4)一边根据Z载台(7)的位置依次将白光的亮度从第一等级变化为第二等级,并拍摄干涉光的图像,针对拍摄到的图像的每个像素,检测在白光的亮度被设定为第一等级或第二等级的期间中干涉光的强度成为最大的Z载台(7)的位置,以作为焦点位置,并基于检测结果来获得膏膜(53)的高度。 | ||
搜索关键词: | 高度 检测 装置 搭载 | ||
【主权项】:
1.一种高度检测装置,用于检测目标对象的高度,其特征在于,包括:光源,该光源射出白光;双光束干涉物镜,该双光束干涉物镜将由所述光源射出的白光分成双光束,将一个光束照射到所述目标对象并将另一个光束照射到参照面,使来自所述目标对象的反射光与来自所述参照面的反射光发生干涉,从而获得干涉光;成像设备,该成像设备对由所述双光束干涉物镜获得的干涉光的图像进行拍摄;Z载台,该Z载台使所述双光束干涉物镜相对于所述目标对象在光轴方向上移动;以及控制设备,该控制设备控制所述光源、所述成像设备、所述Z载台来获得所述目标对象的高度,所述控制设备一边相对于所述目标对象在所述光轴方向上移动所述双光束干涉物镜,一边根据所述Z载台的位置使所述白光的亮度依次在第一至第K等级中变化,并拍摄所述干涉光的图像,针对所拍摄到的图像的各个像素,检测在所述白光的亮度被设定为第k等级的期间中所述干涉光的强度成为最大的所述Z载台的位置,以作为焦点位置,基于该检测结果来获得所述目标对象的高度,K为等于或大于2的整数,k是1到K的任意整数。
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