[发明专利]高度检测装置及搭载该高度检测装置的涂敷装置有效
申请号: | 201680066070.4 | 申请日: | 2016-11-08 |
公开(公告)号: | CN108291802B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 大庭博明 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 周蓉;钱慰民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高度 检测 装置 搭载 | ||
高度检测装置(1)一边相对于膏膜(53)在光轴方向上移动双光束干涉物镜(4)一边根据Z载台(7)的位置依次将白光的亮度从第一等级变化为第二等级,并拍摄干涉光的图像,针对拍摄到的图像的每个像素,检测在白光的亮度被设定为第一等级或第二等级的期间中干涉光的强度成为最大的Z载台(7)的位置,以作为焦点位置,并基于检测结果来获得膏膜(53)的高度。
技术领域
本发明涉及高度检测装置及搭载该高度检测装置的涂敷装置,具体而言涉及对目标对象的高度进行检测的高度检测装置。更具体地,本发明涉及用于检查金属、树脂及其工件的形状、或者检查半导体基板、印刷电路板及平板显示器的基板表面的形状的高度检测装置。
背景技术
日本专利特开No.2015-7564(专利文献1)公开了一种高度检测方法,包括如下步骤:将双光束干涉物镜定位于由施加在基板表面的油墨形成的油墨涂敷部的上方;之后在移动Z载台的同时拍摄干涉光的图像;针对构成所拍摄到的图像的多个像素的每一个获取对比度值达到峰值的Z载台的位置;以及基于所获取到的Z载台的位置获取油墨涂敷部的位置。
引用列表
专利文献
专利文献1:日本专利特开No.2015-7564
专利文献2:日本专利特开No.2007-268354
发明内容
技术问题
然而,当以金属膜的高度为基准来检测膏膜(目标对象)的相对高度时(参照图8),例如,可能会产生如下问题。金属膜中的粒径小至数nm至数十nm时,其表面光滑,容易获得规则的反射光,干涉光的强度变高。相比之下,当膏体所包含的材料的粒径较大时,反射光会因表面粗糙而发生散射,干涉光的强度变低。
在该情况下,金属膜与膏膜之间的干涉光的强度大不相同。在为了增加与膏膜对应的干涉光的强度而增加白光的亮度的情况下,与金属膜对应的干涉光的强度变得很高,使得干涉光的图像的亮度可能饱和。在图像的亮度饱和的状态下,无法准确地检测对比度值的峰值,并且无法以金属膜的表面为基准准确地检测膏膜的高度。
因此,本发明的主要目的在于提供一种能准确地检测目标对象的高度的高度检测装置。
问题的解决方案
本发明所涉及的高度检测装置检测目标对象的高度。该高度检测装置包括:光源,该光源射出白光;双光束干涉物镜,该双光束干涉物镜将由所述光源射出的白光分成双光束,将一个光束照射到所述目标对象并将另一个光束照射到参照面,使来自所述目标对象的反射光与来自所述参照面的反射光发生干涉,从而获得干涉光;成像设备,该成像设备对由所述双光束干涉物镜获得的干涉光的图像进行拍摄;Z载台,该Z载台使所述双光束干涉物镜相对于所述目标对象在光轴方向上移动;以及控制设备,该控制设备控制所述光源、所述成像设备、所述Z载台来获得所述目标对象的高度。所述控制设备一边相对于所述目标对象在所述光轴方向上移动所述双光束干涉物镜,一边根据所述Z载台的位置使所述白光的亮度依次在第一至第K等级中变化,并拍摄所述干涉光的图像,针对所拍摄到的图像的各个像素,检测在所述白光的亮度被设定为第k等级的期间中所述干涉光的强度成为最大的所述Z载台的位置,以作为焦点位置,基于该检测结果来获得所述目标对象的高度,K为等于或大于2的整数,k是1到K的任意整数。
发明的有益效果
本发明所涉及的高度检测装置中,一边相对于目标对象在光轴方向上移动双光束干涉物镜,一边根据Z载台的位置使白光的亮度依次在第一至第K等级中变化,并拍摄干涉光的图像,针对所拍摄到的图像的各个像素,检测在白光的亮度被设定为第k等级的期间中干涉光的强度成为最大的Z载台的位置,以作为焦点位置,基于该检测结果来获得目标对象的高度。因此,根据目标对象及其附近的性质来设定白光的亮度等级,从而能准确地检测目标对象的高度。
附图说明
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