[发明专利]将物场成像到像场中的成像光学单元以及包括这样的成像光学单元的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201680065480.7 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN108351499B | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | H-J.罗斯塔尔斯基 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M10)，以将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中。反射镜(M2至M8)中的至少两个实施为GI反射镜。恰好一个光阑(AS)设置为指定成像光学单元(7)的光瞳的外边缘轮廓的至少一个部分。光阑(AS)在成像光束路径中在空间上布置在倒数第二个反射镜(M9)前面。这产生关于其光瞳良好限定且对于投射光刻优化的成像光学单元。 | ||
| 搜索关键词： | 将物场 成像 到像场 中的 光学 单元 以及 包括 这样 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种投射光刻的成像光学单元(7)，‑包括多个反射镜(M1至M10)，所述多个反射镜(M1至M10)将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)，‑其中所述反射镜(M2至M8)中的至少两个反射镜实施为GI反射镜，‑包括恰好一个光阑(AS)，所述恰好一个光阑(AS)预限定所述成像光学单元(7)的光瞳的整个外边缘轮廓，‑其中所述光阑(AS)在所述成像光束路径中在空间上布置在倒数第二个反射镜(M9)前面，‑其中所述物场(4)由以下跨越：‑‑第一笛卡尔物场坐标(x)，以及‑‑第二笛卡尔物场坐标(y)，并且‑其中第三笛卡尔法向坐标(z)垂直于两个物场坐标(x，y)，‑其中所述成像光学单元(7)实施为使得：‑‑所述成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中延伸，成像光主传播方向(zHR)位于所述第一成像光平面中，并且‑‑所述成像光(3)在第二成像光平面(yz)中延伸，所述成像光主传播方向(zHR)位于所述第二成像光平面中，且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面(xzHR)，‑其中在所述第一成像光平面(xzHR)中延伸的所述成像光(3)的第一平面中间像(18)的数目与在所述第二成像光平面(yz)中延伸的成像光(3)的第二平面中间像(19，20)的数目彼此不同。
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