[发明专利]将物场成像到像场中的成像光学单元以及包括这样的成像光学单元的投射曝光设备

说明书

本发明涉及一种投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M10)，以将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中。反射镜(M2至M8)中的至少两个实施为GI反射镜。恰好一个光阑(AS)设置为指定成像光学单元(7)的光瞳的外边缘轮廓的至少一个部分。光阑(AS)在成像光束路径中在空间上布置在倒数第二个反射镜(M9)前面。这产生关于其光瞳良好限定且对于投射光刻优化的成像光学单元。

相关申请的交叉引用

本专利申请要求德国专利申请DE 10 2015 221 983.6的优先权，其内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及一种将物场成像到像场中的成像光学单元。此外，本发明涉及包括这样的成像光学单元的光学系统、包括这样的光学系统的投射曝光设备、通过这样的投射曝光设备制造微结构化或纳米结构化部件的方法，以及由所述方法制造的微结构化或纳米结构化部件。

背景技术

开头所提出的类型的投射光学单元从DE 10 2015 209 827 A1、从DE 10 2012212 753 A1、并且从US 4,964,706已知。

发明内容

本发明的目标是开发一种引言中提到的类型的成像光学单元，使得成像光学单元关于其光瞳良好限定，并且对于投射光刻法结果而最优化。

根据本发明，该目标根据第一方面、通过一种投射光刻的成像光学单元来实现。该成像光学单元包括多个反射镜，所述多个反射镜将成像光沿着成像光束路径从物平面中的物场引导到像平面中的像场，其中所述多个反射镜中的至少两个反射镜实施为GI反射镜，所述GI反射镜具有的所述成像光的入射角大于60°，该成像光学单元包括恰好一个光阑，所述恰好一个光阑预限定所述成像光学单元的光瞳的整个外边缘轮廓，其中所述光阑在所述成像光束路径中在空间上布置在倒数第二个反射镜前面，其中所述物场由以下跨越：第一笛卡尔物场坐标以及第二笛卡尔物场坐标，并且其中第三笛卡尔法向坐标垂直于两个物场坐标，其中所述成像光学单元实施为使得：所述成像光在第一成像光平面中延伸，成像光主传播方向位于所述第一成像光平面中，并且所述成像光在第二成像光平面中延伸，所述成像光主传播方向位于所述第二成像光平面中，且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面，其中在所述第一成像光平面中延伸的所述成像光的第一平面中间像的数目与在所述第二成像光平面中延伸的成像光的第二平面中间像的数目彼此不同。

根据本发明，认识到在成像光束路径中在倒数第二个反射镜前面的安装空间非常适合于光阑的布置，因为成像光束于是，一般来说，可以设计为从外侧从全部侧面是可到达的。GI反射镜是成像光的入射角大于60°的反射镜。成像光的入射角小于45°的NI反射镜与其不同。GI反射镜上的入射角可以大于65°、可以大于70°、可以大于75°，并且可以大于80°。光阑预限定成像光学单元的光瞳的整个外边缘轮廓。光阑在区段中可以实施为平面样式。光阑可以配置有光阑边缘轮廓的3D外形。除了预限定光瞳的外边缘轮廓的所述光阑之外，可以提供遮蔽光阑，以预限定光瞳的遮蔽的内边缘轮廓。特别地，认识到在存在不同数目的第一平面和第二平面中间像的情况下，也可以由恰好一个光阑预限定成像光学单元的光瞳。

所述成像光束路径中的最后的反射镜具有用于所述成像光的通道的通道开口。上述反射镜导致光瞳的遮蔽，促成具有大的像侧数值孔径的投射光学单元，尤其是具有大于0.4、大于0.45或大于0.5的数值孔径。像侧数值孔径可以为0.55且可以甚至更大。

所述成像光束路径中的倒数第二个反射镜不具有用于所述成像光的通道的通道开口。上述反射镜可以以可接受花费来制造。

所述光阑布置在所述成像光学单元的两个GI反射镜之间。所述成像光学单元具有多于六个反射镜，其中所述光阑在所述成像光束路径中布置在第五反射镜和第六反射镜之间。上述光阑位置被发现是特别合适的。