[发明专利]将物场成像到像场中的成像光学单元以及包括这样的成像光学单元的投射曝光设备有效
| 申请号: | 201680065480.7 | 申请日: | 2016-11-04 |
| 公开(公告)号: | CN108351499B | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
| 发明(设计)人: | H-J.罗斯塔尔斯基 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 将物场 成像 到像场 中的 光学 单元 以及 包括 这样 投射 曝光 设备 | ||
1.一种投射光刻的成像光学单元(7),
-包括多个反射镜(M1至M10),所述多个反射镜(M1至M10)将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8),
-其中多个反射镜(M2至M8)中的至少两个反射镜实施为GI反射镜,所述GI反射镜具有的所述成像光(3)的入射角大于60°,
-包括恰好一个光阑(AS),所述恰好一个光阑(AS)预限定所述成像光学单元(7)的光瞳的整个外边缘轮廓,
-其中所述光阑(AS)在所述成像光束路径中在空间上布置在倒数第二个反射镜(M9)前面,
-其中所述物场(4)由以下跨越:
--第一笛卡尔物场坐标(x),以及
--第二笛卡尔物场坐标(y),并且
-其中第三笛卡尔法向坐标(z)垂直于两个物场坐标(x,y),
-其中所述成像光学单元(7)实施为使得:
--所述成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中延伸,成像光主传播方向(zHR)位于所述第一成像光平面中,并且
--所述成像光(3)在第二成像光平面(yz)中延伸,所述成像光主传播方向(zHR)位于所述第二成像光平面中,且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面(xzHR),
-其中在所述第一成像光平面(xzHR)中延伸的所述成像光(3)的第一平面中间像(18)的数目与在所述第二成像光平面(yz)中延伸的成像光(3)的第二平面中间像(19,20)的数目彼此不同。
2.如权利要求1所述的成像光学单元,其特征在于,所述成像光束路径中的最后的反射镜(M10)具有用于所述成像光(3)的通道的通道开口(17)。
3.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,所述成像光束路径中的倒数第二个反射镜(M9)不具有用于所述成像光(3)的通道的通道开口。
4.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,所述光阑(AS)布置在所述成像光学单元(7)的两个GI反射镜(M5,M6)之间。
5.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,所述成像光学单元(7)具有多于六个反射镜,其中所述光阑(AS)在所述成像光束路径中布置在第五(M5)反射镜和第六(M6)反射镜之间。
6.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,所述光阑(AS)实施为具有光阑边缘轮廓的3D外形。
7.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,所述第二平面中间像(20)中的至少一个第二平面中间像在所述成像光束路径中布置在第六反射镜(M6)与第七反射镜(M7)之间,其中,所述第六反射镜和所述第七反射镜为GI反射镜。
8.如权利要求2所述的成像光学单元,其特征在于,所述第一平面中间像(18)中的至少一个第一平面中间像布置在所述成像光束路径中的所述通道开口(17)的区域中。
9.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,在所述成像光(3)的束路径中,所述成像光学单元(7)的入瞳(EP)布置在所述物场(4)的上游。
10.如权利要求1或2所述的成像光学单元,其特征在于,所述成像光学单元(7)的光瞳具有遮蔽,其中提供遮蔽光阑(OS),所述遮蔽光阑(OS)预限定所述光瞳的遮蔽的内边缘轮廓的至少一部分。
11.一种光学系统,
-包括照明光学单元(6),所述照明光学单元(6)以所述成像光(3)照明所述物场(4),
-包括根据权利要求1至10中任一项所述的成像光学单元(7)。
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