[发明专利]用于对试样的以荧光记号标记的结构高分辨率成像的方法和设备有效
申请号: | 201680061985.6 | 申请日: | 2016-10-14 |
公开(公告)号: | CN108291873B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | A·舍恩勒;C·武尔姆;B·哈尔克;G·唐纳特 | 申请(专利权)人: | 阿贝里奥仪器有限责任公司 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01J3/44;G02B21/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 郭毅;王毅 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为了对试样的以荧光记号标记的结构进行高分辨率成像,以光强度分布加载所述试样,在所述光强度分布中,聚焦的荧光激发光(14)的强度极大值与聚焦的荧光阻抑光(19)的由一些强度极大值包围的强度极小值叠加成光强度分布(22)。在此,以所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值选择性地扫描所述试样的感兴趣的部分区域,其中,记录从所述试样发射的荧光(15)以及将其与所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值在所述试样中的相应的位置相对应。对于所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值的相应的位置,当已记录从所述试样发射的荧光(15)的预给定的最大光量时,和/或,当在预给定的时间段之内还未记录从所述试样发射的荧光(15)的预给定的最小光量时,至少中断所述试样的以所述光强度分布(22)的聚焦的荧光阻抑光(19)的加载。选择所述试样的感兴趣的部分区域,其方式是,使聚焦的荧光激发光在无荧光阻抑光(19)的情况下对准所述试样,其中,记录从所述试样发射的荧光(15),其中,如果对于所述试样的一部分区域在预给定的测试时间段(Δt1)之内已记录从所述试样发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM1),则将所述试样的所述部分区域定义为感兴趣的部分区域。 | ||
搜索关键词: | 用于 试样 荧光 记号 标记 结构 高分辨率 成像 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于对试样(2)的以荧光记号标记的结构(41)进行高分辨率成像的方法,其中,以光强度分布(22)加载所述试样(2),在所述光强度分布中,聚焦的荧光激发光(14)的强度极大值(23)与聚焦的荧光阻抑光(19)的由一些强度极大值(25)包围的强度极小值(24)叠加,其中,以所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)选择性地扫描所述试样(2)的感兴趣的部分区域(38),其中,记录从所述试样(2)发射的荧光(15)以及将其与所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)在所述试样(2)中的相应的位置相对应,以及其中,对于所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)的相应的位置,‑当已记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最大光量(LM4)时,和/或,‑当在预给定的时间段(Δt2)之内还未记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM2)时,至少中断所述试样(2)的以所述光强度分布(22)的聚焦的荧光阻抑光(19)的加载,其特征在于,以所述聚焦的荧光激发光(14)以具有与所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)的尺寸相协调的步宽的步扫描所述试样(2),其中,记录从所述试样(2)发射的荧光(15),其中,在每个步中,仅仅当在预给定的测试时间段(Δt1)之内已记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM1)时,才接入所述荧光阻抑光(19)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿贝里奥仪器有限责任公司,未经阿贝里奥仪器有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680061985.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。