[发明专利]用于对试样的以荧光记号标记的结构高分辨率成像的方法和设备

权利要求书

1.一种用于对试样(2)的以荧光记号标记的结构(41)进行高分辨率成像的方法，

其中，以光强度分布(22)加载所述试样(2)，在所述光强度分布中，聚焦的荧光激发光(14)的强度极大值(23)与聚焦的荧光阻抑光(19)的由一些强度极大值(25)包围的强度极小值(24)叠加，

其中，以所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)选择性地扫描所述试样(2)的感兴趣的部分区域(38)，其中，记录从所述试样(2)发射的荧光(15)以及将其与所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)在所述试样(2)中的相应的位置相对应，以及

其中，对于所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)的相应的位置，

-当已记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最大光量(LM4)时，和/或，

-当在预给定的时间段(Δt2)之内还未记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM2)时，

至少中断所述试样(2)的以所述光强度分布(22)的聚焦的荧光阻抑光(19)的加载，

其特征在于，

以所述聚焦的荧光激发光(14)以具有与所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值(24)的尺寸相协调的步宽的步扫描所述试样(2)，其中，记录从所述试样(2)发射的荧光(15)，其中，在每个步中，仅仅当在预给定的测试时间段(Δt1)之内已记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM1)时，才接入所述荧光阻抑光(19)。

2.根据权利要求1所述的方法，

其中，以包括聚焦的荧光激发光的强度极大值(23)的光强度分布(22)加载所述试样(2)，其中，以所述光强度分布(22)扫描所述试样(2)的感兴趣的部分区域(38)，其中，记录从所述试样(2)发射的荧光(15)并且将其与所述光强度分布(22)的相应的位置相对应，以及

其中，当在预给定的时间段(Δt2)之内还未记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM2)时，至少中断所述试样(2)的以所述光强度分布(22)的一部分对于所述相应的位置的加载，

其特征在于，

当在至少一个预给定的、比所述时间段(Δt2)更长的另外的时间段(Δt3)之内，还未记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的、大于所述预给定的最小光量(LM2)的另外的预给定的最小光量(LM3)时，也至少中断所述试样(2)的以所述光强度分布(22)的一部分对于所述相应的位置的加载。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，当已经记录了从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最大光量(LM4)时，也至少中断所述试样(2)的以所述光强度分布(22)的一部分对于所述相应的位置的加载。

4.根据权利要求1所述的方法，

其中，以包括聚焦的荧光激发光(14)的强度极大值(23)的光强度分布(22)加载所述试样(2)，其中，以所述光强度分布(22)扫描所述试样(2)的感兴趣的部分区域(38)，其中，记录从所述试样(2)发射的荧光(15)并且将其与所述光强度分布(22)的相应的位置相对应，以及

其中，

-当已记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最大光量(LM4)时，和/或，

-当在预给定的时间段(Δt2)之内还未记录从所述试样(2)发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM2)时，

至少中断所述试样(2)的以所述光强度分布(22)的一部分对于所述相应的位置的加载，

其特征在于，

越过所述感兴趣的部分区域(38)的扫描的多次重复地和/或越过所述试样(2)的多个依次被扫描的、具有不同的z位置的x-y平面地减小所述预给定的最大光量和/或最小光量(LM2，LM3，LM4)中的至少一个和/或提高所属的预给定的时间段(Δt2，Δt3)。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，根据指数函数减小所述预给定的最大光量和/或最小光量(LM1，LM2，LM3)中的至少一个，和/或，根据指数函数提高所属的预给定的时间段(Δt2，Δt3)。