[发明专利]衬底保持器、光刻设备和制造器件的方法有效
| 申请号： | 201680056571.4 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN108139675B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | B·J·P·罗塞特;S·A·特姆普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用在光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(20)，具有主体表面；多个突节(21)，从主体表面突出，其中，每个突节都具有配置成与衬底接合的远端，突节的远端的形状大致与支撑平面保持一致，由此使得衬底能够以大致平坦的状态支撑在突节上；以及流控制特征(22、22c、22d)，配置成当衬底正被降低到衬底保持器上时在衬底保持器的周边附近形成气垫。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 保持 光刻 设备 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
一种衬底保持器，所述衬底保持器用在光刻设备中并且配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：主体，所述主体具有主体表面；多个突节，所述多个突节从所述主体表面突出，其中，每个突节都具有配置成与所述衬底接合的远端，所述突节的远端的形状大致与支撑平面保持一致，由此衬底能够以大致平坦的状态支撑在所述突节上；以及流控制特征，所述流控制特征配置成当衬底正被降低到所述衬底保持器上时在所述衬底保持器的周边附近形成气垫。
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