[发明专利]衬底保持器、光刻设备和制造器件的方法

说明书

一种用在光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(20)，具有主体表面；多个突节(21)，从主体表面突出，其中，每个突节都具有配置成与衬底接合的远端，突节的远端的形状大致与支撑平面保持一致，由此使得衬底能够以大致平坦的状态支撑在突节上；以及流控制特征(22、22c、22d)，配置成当衬底正被降低到衬底保持器上时在衬底保持器的周边附近形成气垫。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年9月28日递交的欧洲专利申请EP15187184.5的优先权，该欧洲专利申请的全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明涉及一种衬底保持器、使用该衬底保持器的光刻设备以及使用该衬底保持器来制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是将所需图案施加到衬底上(通常是衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成要在集成电路的单层上形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。通常，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转移。通常，单个衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器；在所述步进器中，通过将全部图案一次曝光到目标部分上来辐射每一个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。另外，能够通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。

已经提出将光刻投影设备中的衬底浸入具有相对较高的折射率的液体(例如水)中，以便填充投影系统的最终光学元件与衬底之间的空间。在实施例中，所述液体是蒸馏水，尽管可以使用其它液体。这一点的意思是实现更小特征的成像，这是因为曝光辐射在液体中具有较短的波长。液体的影响也可以被认为是增加了系统的有效数值孔径(NA)并且也增加了焦深。

衬底在曝光期间通常被夹持到衬底保持器。通常使用两种夹持技术。在真空夹持中，建立衬底上的压力差，例如通过将衬底之间的空间连接到负压，使得衬底上方的较高压力施加将衬底保持到衬底保持器的力。在静电夹持中，静电力用于在衬底与衬底保持器之间施加力。已知几种不同的布置来实现这一点。在一种布置中，在衬底的下表面上设置第一电极，在衬底保持器的上表面上设置第二电极。第一电极和第二电极之间建立电位差。在另一种布置中，在衬底保持器上设置两个半圆形电极，并且在衬底上设置导电层。在两个半圆形电极之间施加电位(电压)差，使得衬底上的两个半圆形电极和导电层如同两个串联的电容器那样运转。

衬底保持器通常具有多个突节，用以支撑衬底。与衬底的总面积相比，接触所述衬底的突节的总面积是小的。因此，随机地位于衬底或衬底保持器的表面上的污染物颗粒被俘获在突节和衬底之间的可能性很小。另外，在衬底保持器的制造中，使突节的顶部精确地共面比使大表面准确地平坦更容易。

为了将衬底装载到衬底保持器上以准备曝光，它由衬底处理机器人放置到通过衬底保持器突出的所谓的提升销(e销)上。然后，e销缩回，以将衬底降低到衬底保持器上。然后，施加夹持力，使得衬底在曝光期间被保持得非常牢固。夹持力足够大，以将衬底保持在适当的位置，即使受到非常大的加速度时，并且例如由于在曝光期间吸收来自投影束的能量而抵抗热膨胀。如果衬底变形(从而例如是凸形的)，则夹持力趋向于使得衬底抵靠衬底保持器而变成平坦的。

发明内容

例如，期望提供一种能够更好地操作变形的衬底的改善的衬底保持器。

根据本发明的一个方面，提供一种用于光刻设备并且配置成支撑衬底的衬底保持器，所述衬底保持器包括：

主体，所述主体具有主体表面；

多个突节，所述多个突节从所述主体表面突出，其中，