[发明专利]衬底保持器、光刻设备和制造器件的方法

权利要求书

1.一种衬底保持器，所述衬底保持器用在光刻设备中并且配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：

主体，所述主体具有主体表面；

多个突节，所述多个突节从所述主体表面突出，其中，

每个突节都具有配置成与所述衬底接合的远端，

所述突节的远端的形状大致与支撑平面保持一致，由此衬底能够以大致平坦的状态支撑在所述突节上；以及

流控制特征，所述流控制特征配置成当衬底正被降低到所述衬底保持器上时在所述衬底保持器的周边附近形成气垫；其中，所述流控制特征包括在与所述支撑平面相比更靠近所述主体表面的高度处且设置成与所述衬底保持器的周边相邻的凸起区域，所述凸起区域具有远端表面，并且所述远端表面是相对于所述支撑平面倾斜的远端表面或具有凹形的表面；和

密封结构，所述密封结构设置在所述流控制结构的径向外侧，其中所述密封结构配置成减少进入在所述衬底下方的空间中的气流，由此减少维持负压所需要的能量。

2.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，所述凸起区域呈环形，所述环围绕所述衬底保持器的整个周边。

3.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，所述凸起区域在所述衬底保持器的径向方向上的宽度在3mm至80mm的范围内。

4.根据权利要求3所述的衬底保持器，其中所述宽度在10mm至50mm的范围内。

5.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，所述凸起区域具有远端表面，并且所述远端表面平行于所述支撑平面。

6.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，介于所述远端表面与所述支撑平面之间的距离为至少3μm。

7.根据权利要求6所述的衬底保持器，其中所述距离是10μm。

8.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，所述远端表面之间的距离为至多50μm。

9.根据权利要求1所述的衬底保持器，还包括位于所述衬底保持器的中心区域中的多个通孔。

10.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，在所述密封结构的远端密封表面与所述支撑平面之间的距离小于在所述流控制结构的远端表面与所述支撑平面之间的距离。

11.一种用于将图像投影到衬底上的光刻设备，所述光刻设备包括：

根据前述权利要求中任一项所述的衬底保持器；以及

用于将衬底夹持在所述衬底保持器上的夹持系统。

12.一种使用根据权利要求11所述的光刻设备来制造器件的方法，所述方法包括：

将衬底装载到所述衬底保持器上；

接合所述夹持系统；以及

将图案曝光到所述衬底上。