[发明专利]光刻设备中的图形化装置冷却系统有效
| 申请号： | 201680041170.1 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN107949810B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | L·J·A·范博克霍温;C·C·瓦尔德;M·L·范德加格;J·G·C·库南 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备(100)包括被配置用于支撑图形化装置(110)的图形化装置支撑结构(104)，被配置用于提供跨图形化装置的表面的气流(114)的气体入口(116)，以及被配置用于基于设定点调节气流温度的温度调节装置(134)。设备也包括被配置用于在光刻系统的操作使用期间测量指示了添加至图形化装置以及图形化装置和投影系统(106)透镜(124)之间空间(126)的热量的参数的传感器(132)。进一步，设备包括可操作地耦合至传感器并且被配置用于基于由传感器测得参数调节设定点以控制图形化装置温度的控制器(130)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 中的 图形 化装 冷却系统 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：图形化装置支撑结构，被配置用于支撑图形化装置；气体入口，被配置用于提供跨所述图形化装置的表面的气流；温度调节装置，被配置用于基于设定点调节所述气流的温度；传感器，被配置用于在光刻系统的操作使用期间测量如下参数，该参数指示被添加至(a)所述图形化装置和(b)所述图形化装置与投影系统的透镜之间的空间中的至少一个的热量的量；以及控制器，可操作地耦合至所述传感器并且被配置用于基于由所述传感器测得的参数调节所述设定点以控制所述图形化装置的温度。
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