[发明专利]光刻设备中的图形化装置冷却系统

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

图形化装置支撑结构，被配置用于支撑图形化装置；

气体入口，被配置用于提供跨所述图形化装置的表面的气流；

温度调节装置，被配置用于基于设定点调节所述气流的温度；

传感器，被配置用于在光刻系统的操作使用期间测量如下参数，该参数指示被添加至(a)所述图形化装置和(b)所述图形化装置与投影系统的透镜之间的空间中的至少一个的热量的量，其中所述传感器被定位为与所述空间相邻；以及

控制器，可操作地耦合至所述传感器并且被配置用于基于由所述传感器测得的参数调节所述设定点以控制所述图形化装置的温度，其中由所述传感器测得的所述参数指示所述图形化装置的形状。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，由所述传感器测得的所述参数是图形化装置对准参数。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述图形化装置对准参数是倍率参数。

4.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述传感器是光学传感器。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述控制器被配置用于基于所述图形化装置的形状计算所述图形化装置的温度分布、和在所述图形化装置和所述投影系统的透镜之间的所述空间的温度分布中的至少一个。

6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述传感器被配置用于测量在所述图形化装置与所述投影系统的透镜之间的所述空间中的流体的温度。

7.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述传感器耦合至将所述图形化装置与所述投影系统的所述透镜分离的隔板。

8.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述传感器被配置用于测量所述图形化装置的一部分的温度。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，所述图形化装置的一部分是所述图形化装置的、背离在所述图形化装置与投影系统的透镜之间的空间的表面。

10.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述温度调节装置包括加热器。

11.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述温度调节装置进一步包括冷却装置。

12.根据权利要求11所述的光刻设备，其中，所述冷却装置包括珀尔贴装置。

13.一种用于控制图形化装置的温度的方法，包括：

跨所述图形化装置的表面流动气体；

基于设定点调节所述气体的温度；

在光刻系统的操作使用期间，测量如下参数，该参数指示被添加至(a)所述图形化装置和(b)在所述图形化装置与投影系统的透镜之间的空间中的至少一个的热量的量，其中传感器被定位为与所述空间相邻并且由所述传感器测得的所述参数指示所述图形化装置的形状；以及

基于测得的参数调节所述设定点。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所测得的参数是图形化装置对准参数。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述图形化装置对准参数是倍率参数。

16.根据权利要求13所述的方法，进一步包括：

基于所述图形化装置的所确定的形状，计算所述图形化装置的温度分布、和在所述图形化装置与所述投影系统的所述透镜之间的所述空间的温度分布中的至少一个，

其中基于所测得的参数调节所述设定点包括：基于计算得到的、所述图形化装置的温度分布、和在所述图形化装置与所述投影系统的所述透镜之间的所述空间的温度分布中的至少一个，调节所述设定点。