[发明专利]低薄层电阻MEOL电阻器的方法与设计有效

专利信息
申请号: 201680039990.7 申请日: 2016-06-03
公开(公告)号: CN108028253B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: N·庄;J·G·安;P·C·叶;C·W·张 申请(专利权)人: 赛灵思公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L23/522;H01L49/02
代理公司: 北京市君合律师事务所 11517 代理人: 毛健;顾云峰
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 集成电路结构(100)包括:半导体衬底(102);在半导体衬底(102)中的浅沟槽隔离(STI)区域(106);形成在所述半导体衬底(102)上的一个或多个有源器件;以及电阻器阵列(138),其具有设置在所述STI区域(106)上方的多个电阻器;其中所述电阻器阵列(138)包括用于互连到所述一个或多个有源器件的一个或多个互连接触层(126,136)的一部分。
搜索关键词: 薄层 电阻 meol 电阻器 方法 设计
【主权项】:
1.一种集成电路结构,其特征在于,包括:半导体衬底;在所述半导体衬底中的浅沟槽隔离“STI”区域;在所述半导体衬底上形成的一个或多个有源器件;以及电阻器阵列,其具有设置在所述STI区域上方的多个电阻器;其中所述电阻器阵列包括用于互连到所述一个或多个有源器件的一个或多个互连接触层的一部分。
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