[发明专利]竖直堆叠系统级封装及其制造方法有效
申请号: | 201680023338.6 | 申请日: | 2016-03-08 |
公开(公告)号: | CN107533985B | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 翟军;胡坤忠 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L23/00;H01L23/31 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 边海梅 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明描述了一种竖直堆叠的系统级封装结构。一种封装包括第一级(125)模制(122)和扇出结构(130)、第三级(185)模制(182)和扇出结构(190)以及在所述第一级(125)和第三级(185)之间的第二级(155)模制(152)和扇出结构(160)。所述第一级(125)模制(122)和扇出结构(130)包括第一级裸片(110),所述第二级(155)模制(152)和扇出结构(160)包括背对背面向的裸片(142),其中每个裸片(142)的正表面粘结到再分配层(130,160),并且所述第三级(185)模制(182)包括第三级裸片(172)。可使用多个第一级模制裸片(110)。所述第一级裸片(110)可为易失性存储器裸片,所述第二级裸片(142)可为非易失性存储器裸片,并且所述第三级裸片(172)可为活动裸片。在形成所述竖直堆叠系统级封装的方法中,可使用承载衬底,随后除去。 | ||
搜索关键词: | 竖直 堆叠 系统 封装 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种竖直堆叠系统级封装(SiP),包括:第一级裸片,所述第一级裸片包封在第一级模制化合物中;第一再分配层(RDL),所述第一再分配层位于所包封的第一级裸片上;第二级裸片叠堆,所述第二级裸片叠堆在所述第一RDL上包括一对背对背堆叠的裸片并包封在第二级模制化合物中;第二RDL,所述第二RDL位于所包封的第二级裸片叠堆上;第三级裸片,所述第三级裸片位于所述第二RDL上并包封在第三级模制化合物中,其中所述第三级裸片背面朝向所述第二RDL;以及第三RDL,所述第三RDL位于所包封的第三级裸片上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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