[发明专利]反射镜、特别是微光刻投射曝光设备的反射镜有效
| 申请号： | 201680023268.4 | 申请日： | 2016-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN107533301B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | A.贡查尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据本发明的反射镜具有反射镜基板(101)，将入射至光学有效表面(100a)上的电磁辐射反射的反射层系统(102)，以及覆盖层(104)，该覆盖层布置在反射层系统(102)面向光学有效表面(100a)的一侧上，并且该覆盖层由第一材料制造，其中第二材料的粒子(105)单独地或团簇地施加至此覆盖层(104)上，其中该第二材料与该第一材料不同。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 特别是 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面，该反射镜包含：反射镜基板(101)；反射层系统(102)，反射入射至该光学有效表面(100a)上的电磁辐射；以及覆盖层(104)，布置在该反射层系统(102)面向该光学有效表面(100a)的一侧上，并且由第一材料制造；其中，将第二材料的粒子(105)单独地或团簇地施加至该覆盖层(104)上，其中所述第二材料与所述第一材料不同。
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