[发明专利]反射镜、特别是微光刻投射曝光设备的反射镜

权利要求书

1.一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面，该反射镜包含：

反射镜基板(101)；

反射层系统(102)，反射入射至该光学有效表面(100a)上的电磁辐射；以及

覆盖层(104)，布置在该反射层系统(102)面向该光学有效表面(100a)的一侧上，并且由第一材料制造；

其中，将第二材料的粒子(105)单独地或团簇地施加至该覆盖层(104)上，其中所述第二材料与所述第一材料不同，

其中，施加所述粒子(105)，使得与无所述粒子(105)的类似设计相比，减少在该反射镜的操作期间或运输期间该覆盖层(104)的污染物，

其中，施加该第二材料的粒子(105)，使得所述粒子(105)植入该覆盖层(104)的表面结构中的缺陷。

2.如权利要求1的反射镜，其特征在于，所述第一材料选自包含金属、氧化物、碳化物、硼化物、氮化物以及其混合物的组。

3.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述第一材料为钌(Ru)。

4.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述第二材料选自包含贵金属，以及硫(S)的组。

5.如前述权利要求4的反射镜，其特征在于，所述贵金属是金(Au)、银(Ag)、钯(Pd)和铂(Pt)。

6.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述覆盖层(104)的厚度在0.5nm至10nm的范围内。

7.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，粒子的数量为对应于该第二材料的单层的数量的至多50％。

8.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，粒子的数量为对应于该第二材料的单层的数量的至多30％。

9.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，粒子的数量为对应于该第二材料的单层的数量的至多10％。

10.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述第二材料的团簇包含不超过25个原子。

11.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述第二材料的团簇包含不超过20个原子。

12.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述第二材料的团簇包含不超过15个原子。

13.如权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述反射层系统为多层系统。

14.如权利要求1或2的反射镜，其特征在于，针对具有预定操作波长的电磁辐射，所述反射镜具有至少0.5的反射率，该电磁辐射以至少65°的关于相应表面法线的入射角入射至该光学有效表面上。

15.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述反射镜(10)设计用于小于30nm的操作波长。

16.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述反射镜(10)设计用于小于15nm的操作波长。

17.如前述权利要求1或2的反射镜，其特征在于，所述反射镜为微光刻投射曝光设备的反射镜。

18.一种微光刻投射曝光设备(500)的光学系统，包含至少一个根据前述权利要求中任一项的反射镜。

19.如权利要求18的光学系统，其特征在于，所述光学系统是照明装置或投射镜头。

20.一种微光刻投射曝光设备(500)，包含照明装置和投射镜头，其特征在于，所述投射曝光设备具有根据权利要求1至17中任一项的反射镜。