[发明专利]经颅磁刺激装置用线圈装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201680020711.2 | 申请日： | 2016-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN107708611B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 斋藤洋一;关野正树;山本启太 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东京大学;国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号： | A61N2/04 | 分类号： | A61N2/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 闫小龙;郑冀之 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了提供能够使头部表面的电场强度进一步增大的经颅磁刺激装置用线圈装置，而为将绕线线圈放置在头部表面上或其附近并且利用电磁感应在脑内的磁刺激对象区域中产生由感应电场引起的电流来对神经元进行刺激的经颅磁刺激装置用的线圈装置，所述绕线线圈具备：在所述头部表面上或其附近配置的近头部表面导线部、以及与所述近头部表面导线部相比远离所述头部表面来配置的远头部表面导线部，设定为使所述近头部表面导线部与所述远头部表面导线部之间的距离发生变化，以使所述感应电场强度与所述磁刺激对象区域的周边区域相比较增大。 | ||
| 搜索关键词： | 经颅磁 刺激 装置 线圈 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种经颅磁刺激装置用线圈装置，将绕线线圈放置在头部表面上或其附近，利用电磁感应在脑内的磁刺激对象区域中产生由感应电场引起的电流来对神经元进行刺激，所述线圈装置的特征在于，所述绕线线圈具备：在所述头部表面上或其附近配置的近头部表面导线部、以及与所述近头部表面导线部相比远离所述头部表面来配置的远头部表面导线部，设定为使所述近头部表面导线部与所述远头部表面导线部之间的距离发生变化，以使所述感应电场强度与所述磁刺激对象区域的周边区域相比较增大。
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