[发明专利]经颅磁刺激装置用线圈装置及其制造方法有效
| 申请号: | 201680020711.2 | 申请日: | 2016-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN107708611B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
| 发明(设计)人: | 斋藤洋一;关野正树;山本启太 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东京大学;国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号: | A61N2/04 | 分类号: | A61N2/04 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 闫小龙;郑冀之 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 经颅磁 刺激 装置 线圈 及其 制造 方法 | ||
1.一种经颅磁刺激装置用线圈装置,将绕线线圈放置在头部表面上或其附近,利用电磁感应在脑内的磁刺激对象区域中产生由感应电场引起的电流来对神经元进行刺激,所述线圈装置的特征在于,
所述绕线线圈是具备在所述头部表面上或其附近配置的近头部表面导线部以及与所述近头部表面导线部相比远离所述头部表面来配置的远头部表面导线部的拱顶型线圈,
以使所述感应电场强度与所述磁刺激对象区域的周边区域相比较增大的方式设定所述拱顶型线圈的所述近头部表面导线部与所述远头部表面导线部之间的距离的最大值即线圈的高度,并且,通过在将所述产生的感应电场强度的分布保持为固定的状态下使所述线圈的高度发生变化,从而将所述线圈的高度设定为最佳值。
2.根据权利要求1所述的经颅磁刺激装置用线圈装置,其特征在于,设定为使所述线圈的高度发生变化,以使所述线圈装置的电感进入到规定的电感范围并且所述感应电场进入到头部表面上的规定的分布内。
3.根据权利要求2所述的经颅磁刺激装置用线圈装置,其特征在于,所述电感范围为5μH以上且为13μH以下。
4.一种经颅磁刺激装置用线圈装置的制造方法,所述经颅磁刺激装置用线圈装置是如下的线圈装置,即,将绕线线圈放置在头部表面上或其附近,利用电磁感应在脑内的磁刺激对象区域中产生由感应电场引起的电流来对神经元进行刺激,所述制造方法的特征在于,
所述绕线线圈是具备在所述头部表面上或其附近配置的近头部表面导线部以及与所述近头部表面导线部相比远离所述头部表面来配置的远头部表面导线部的拱顶型线圈,
所述制造方法包含如下步骤:
以使所述感应电场强度与所述磁刺激对象区域的周边区域相比较增大的方式设定所述拱顶型线圈的所述近头部表面导线部与所述远头部表面导线部之间的距离的最大值即线圈的高度,并且,通过在将所述产生的感应电场强度的分布保持为固定的状态下使所述线圈的高度发生变化,从而将所述线圈的高度设定为最佳值。
5.根据权利要求4所述的制造方法,其特征在于,包含如下步骤:设定为使所述线圈的高度发生变化,以使所述线圈装置的电感进入到规定的电感范围并且所述感应电场进入到头部表面上的规定的分布内。
6.根据权利要求5所述的制造方法,其特征在于,所述电感范围为5μH以上且为13μH以下。
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