[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
| 申请号: | 201680018398.9 | 申请日: | 2016-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN107430214B | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
| 发明(设计)人: | 高桥裕树 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B32B9/00;G02B1/115 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;张志楠 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的设置于基材表面的防反射膜具备以水合氧化铝作为主成分的表面层。表面层仅具有随着从基材侧朝向表面侧而每单位体积中水合氧化铝所占的体积的比例减少的凹凸结构,凹凸结构的分布于表面侧的顶点以顶点周期小于等于欲防止反射的光的波长的方式排列。 | ||
| 搜索关键词: | 反射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种防反射膜,其设置于基材表面,所述防反射膜具备以水合氧化铝作为主成分的表面层,所述表面层仅具有凹凸结构,该凹凸结构中随着从基材侧朝向表面侧而每单位体积中所述水合氧化铝所占的体积的比例减少,所述凹凸结构的分布于表面侧的顶点以顶点周期小于等于欲防止反射的光的波长的方式排列,所述防反射膜中,具有与所述表面层的所述基材侧相邻且由氢化金属氧化物、金属氧化物、金属氟化物或氢化氧化硅成膜的粘附层,所述粘附层在25℃的基准温度下的热膨胀系数的值为0.65×10‑6~19×10‑6/K的范围的值,且所述粘附层与所述表面层的界面的折射率差为0.2以上且1.15以下。
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