[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
| 申请号: | 201680018398.9 | 申请日: | 2016-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN107430214B | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
| 发明(设计)人: | 高桥裕树 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B32B9/00;G02B1/115 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;张志楠 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 反射 及其 制造 方法 | ||
本发明的设置于基材表面的防反射膜具备以水合氧化铝作为主成分的表面层。表面层仅具有随着从基材侧朝向表面侧而每单位体积中水合氧化铝所占的体积的比例减少的凹凸结构,凹凸结构的分布于表面侧的顶点以顶点周期小于等于欲防止反射的光的波长的方式排列。
技术领域
本发明涉及一种在表面具有凹凸结构的防反射膜及其制造方法。
背景技术
以往,使用玻璃、塑料等透光性部件的透镜(透明基材)中,为了减少表面反射引起的透射光的损失而在光入射面设置有防反射膜。
例如,作为针对可见光的防反射结构体,已知有电介质多层膜或比可见光的波长短的间距的微细凹凸层等(专利文献1~3等)。
通常,构成微细凹凸层的材料与透明基材的折射率不同。因此,已知利用于透明基材的防反射时,需要整合凹凸层与透明基材之间的折射率高低差的机构。
专利文献1中,公开有在基材上经由透明薄膜层(中间层)形成有使氧化铝进行勃姆石化来获得的微细凹凸层的结构。
并且,专利文献2中公开有如下结构,即,作为基材与使氧化铝进行勃姆石化来获得的微细凹凸层之间的中间层,配置2层具有凹凸层与基材的中间折射率的整合层,具体而言,从基材侧依次配置第1整合层、第2整合层,所述第1及第2整合层具有基材的折射率>第1整合层的折射率>第2整合层的折射率>凹凸层的折射率的关系。
而且,专利文献3中公开有具有5层结构的中间层的结构。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-275372号公报
专利文献2:日本特开2013-47780号公报
专利文献3:日本特开2015-4919号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
在对具备凹凸结构体层的防反射结构进行更严密的研究时,本发明人发现如下问题点,即,若在防反射结构中具备包含水合氧化铝的凹凸结构体层,则会产生虽然少量但无法忽视的程度的散射光,在透镜等产品中,作为该防反射膜形成面的雾气而被识别,由此有时会对光学元件的品质带来较大影响。
本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供一种能够抑制散射光的防反射膜及其制造方法。
用于解决技术课题的手段
本发明的一方式的防反射膜设置于基材表面,上述防反射膜具备以水合氧化铝作为主成分的表面层,上述表面层具有随着从基材侧朝向表面侧而每单位体积中上述水合氧化铝所占的体积的比例减少的凹凸结构,上述凹凸结构的分布于表面侧的顶点以顶点周期小于等于欲防止反射的光的波长的方式排列,所述防反射膜中,具有与上述表面层的上述基材侧相邻且由氢化金属氧化物、金属氧化物或金属氟化物成膜的粘附层,上述粘附层在25℃的基准温度下的热膨胀系数的值为0.65×10-6~19×10-6/K的范围的值,且上述粘附层与上述表面层的界面的折射率差为0.2以上且1.15以下。
本发明的一方式的防反射膜的制造方法中,对形成于基材表面的以铝或氧化铝作为主成分的表层部分实施水热处理,进行水热处理直至上述表层部分仅成为以水合氧化铝作为主成分的凹凸结构,上述凹凸结构为随着从上述表层部分的基材侧朝向表面侧而每单位体积中形成上述表层部分的上述水合氧化铝所占的体积的比例减少的结构。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够抑制散射光的防反射膜及其制造方法。
附图说明
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