[发明专利]防反射膜及其制造方法

权利要求书

1.一种防反射膜，其设置于基材表面，所述防反射膜具备以水合氧化铝作为主成分的表面层，

所述表面层仅具有凹凸结构，该凹凸结构中随着从基材侧朝向表面侧而每单位体积中所述水合氧化铝所占的体积的比例减少，所述凹凸结构的分布于表面侧的顶点以顶点周期小于等于欲防止反射的光的波长的方式排列，所述防反射膜中，

具有与所述表面层的所述基材侧相邻且由氢化金属氧化物、金属氧化物、金属氟化物或氢化氧化硅成膜的粘附层，

所述粘附层在25℃的基准温度下的热膨胀系数的值为0.65×10^-6～19×10^-6/K的范围的值，且所述粘附层与所述表面层的界面的折射率差为0.2以上且1.15以下。

2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，

在所述基材与所述表面层之间具有多层膜，所述多层膜中层叠有至少2种层：第1薄膜层及第2薄膜层；所述至少2种层每种至少层叠1层以上；所述第1薄膜层由氢化金属氧化物、金属氧化物、金属氟化物或氢化氧化硅构成，所述第2薄膜层的折射率与所述第1薄膜层不同，与所述表面层的所述基材侧相邻的所述第1薄膜层为所述粘附层。

3.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，

在所述粘附层与所述基材之间具有多层膜，所述多层膜中层叠有至少2种层：第1薄膜层及第2薄膜层；所述至少2种层每种至少层叠有1层以上；所述第1薄膜层由氢化金属氧化物、金属氧化物、金属氟化物或氢化氧化硅构成，所述第2薄膜层的折射率与所述第1薄膜层不同，所述粘附层和与所述粘附层相邻的薄膜层具有不同折射率。

4.根据权利要求3所述的防反射膜，其中，

所述粘附层由氢化氧化硅构成。

5.根据权利要求2所述的防反射膜，其中，

所述第1薄膜层及所述第2薄膜层由因各薄膜层中的氢浓度不同而折射率不同的氢化氧化硅构成。

6.根据权利要求3或4所述的防反射膜，其中，

所述第1薄膜层及所述第2薄膜层由因各薄膜层中的氢浓度不同而折射率不同的氢化氧化硅构成。

7.根据权利要求5所述的防反射膜，其中，

所述由氢化氧化硅构成的薄膜层或所述粘附层的氢浓度为0.01原子％至5.02原子％之间的任意值。

8.根据权利要求5或7所述的防反射膜，其中，

所述多层膜由4层以上的氢化氧化硅的薄膜构成。

9.根据权利要求6所述的防反射膜，其中，

所述由氢化氧化硅构成的薄膜层或所述粘附层的氢浓度为0.01原子％至5.02原子％之间的任意值。

10.根据权利要求6所述的防反射膜，其中，

所述多层膜由4层以上的氢化氧化硅的薄膜构成。

11.一种防反射膜的制造方法，其中，

对形成于基材表面的以铝或氧化铝作为主成分的表层部分实施水热处理，

进行水热处理直至所述表层部分仅成为以水合氧化铝作为主成分的凹凸结构，

所述凹凸结构为随着从所述表层部分的基材侧朝向表面侧而每单位体积中形成所述表层部分的所述水合氧化铝所占的体积的比例减少的结构，

与所述以铝或氧化铝作为主成分的表层部分的所述基材侧相邻地形成多层膜，所述多层膜中，层叠有改变薄膜层中的氢浓度来生成的折射率不同的多个氢化氧化硅层。

12.根据权利要求11所述的防反射膜的制造方法，其中，

所述以铝或氧化铝作为主成分的表层部分的水热处理之前的厚度为20nm以下。