[发明专利]多反射镜阵列有效
| 申请号： | 201680018216.8 | 申请日： | 2016-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN107407801B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | J.霍恩;S.图尔克;O.诺德曼;U.比尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种多反射镜阵列，包括含多个被动电衰减装置(39)的可调反射镜元件(19)，用于衰减反射镜元件(19)的可调位置的不规则。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 阵列 | ||
【主权项】：
一种微光刻的投射曝光设备(1)的照明光学单元(4)的多反射镜阵列，包括：1.1具有反射区域(20)的多个可移位反射镜元件(19)，1.2多个致动器，位移所述反射镜元件(19)，以及1.3多个被动电衰减装置(39)，衰减所述反射镜元件(19)的位移位置的扰动，1.4其中，所述致动器为了位移所述反射镜元件(19)中的一个反射镜元件而各具有至少一个致动器电极(33)，致动信号能够通过信号线(36)施加到所述致动器电极，1.5其中，所述衰减装置(39)为了衰减所述反射镜元件(19)的位移位置的扰动，各以与所述致动器电极(33)之一串联连接的方式布置，1.6其中，所述衰减装置(39)包括从反向并联连接二极管，开关电容器结构和晶体管电路的组中选择的至少一个装置。
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