[发明专利]多反射镜阵列

说明书

一种多反射镜阵列，包括含多个被动电衰减装置(39)的可调反射镜元件(19)，用于衰减反射镜元件(19)的可调位置的不规则。

相关申请的交叉引用

本专利申请要求德国专利申请DE 10 2015 205 404.7的优先权，其内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及一种多反射镜阵列，尤其是一种投射曝光设备的照明光学单元的多反射镜阵列。本发明还涉及一种投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜，含有这种分面反射镜的投射曝光设备的照明光学单元，含有这种照明光学单元的照明系统，以及含有这种照明光学单元的投射曝光设备。最后，本发明涉及一种制造微结构或纳米结构部件的方法，以及根据该方法制造的部件。

背景技术

例如，一种投射曝光设备的照明光学单元的多反射镜阵列(multi-mirror array，MMA)由WO 2013/120926 A1所公开。由于低衰减系数，这种多反射镜阵列的单独反射镜对于扰动激励非常敏感。DE 10 2013 203 035 A1公开了一种用于衰减对应单独反射镜振动的衰减区段的减振构造。

发明内容

本发明的目的是改进多反射镜阵列。

通过一种多反射镜阵列实现该目的，该阵列包括用于衰减反射镜元件位移位置的扰动的被动电衰减装置。衰减装置在各个情况下以与其中一个致动电极串联连接的方式布置，致动信号可施加于该致动电极，以位移反射镜元件。衰减装置的单独部件也能够至少瞬时地与致动电极并联连接。

根据本发明，已认识到的是，借助这种被动衰减装置可以显著地提高反射镜元件的定位稳定性。被动衰减装置也能够非常简单地实现。尤其是，它们远不及主动衰减系统复杂。其次，它们也不易受信号线的噪声影响。最后，它们可以特别容易地集成到系统中。

在这种情况下，对比于主动衰减系统，被动衰减装置应理解为表示衰减装置不具备检测反射镜元件的位移位置或其时间导数的测量装置。特别是局部电路中没有这种测量装置。这种测量装置最多可以提供作为外部测量装置，也就是说作为独立的部件。然而，外部测量装置那么特别地用于高级位置调节而不用于衰减。

反射镜元件尤其是微反射镜。特别地，反射镜元件的反射区域的范围为100μm×100μm到10mm×10mm。微反射镜的边长尤其至少为200μm，尤其至少为300μm，尤其至少为500μm。边长尤其最多为5mm，尤其最多3mm，尤其最多2mm，尤其最多1mm。

反射镜元件尤其是EUV反射镜，即，反射EUV范围内，特别是在5nm至30nm的范围内，特别是在5nm至13.5nm的范围内的照明辐射的反射镜。

多反射镜阵列尤其实施为微机电系统(MEMS)。

位移反射镜元件的致动器尤其为电致动器，特别是静电致动器。

根据本发明的其它方面，针对每个反射镜元件的每个位移自由度，衰减装置分配给至少一个致动器电极。特别地，可以为每个致动器电极分配衰减装置。

根据本发明的其它方面，在每种情况下，衰减装置布置在致动器放大器和其中一个致动器电极之间。它们尤其布置在来自用于控制反射镜元件的位移的控制装置的信号线中。它们可以形成这种信号线的一部分。

根据本发明的其它方面，在每种情况下衰减装置实施为能量耗散装置。在每种情况下，它们尤其实施为电阻装置。

依据本发明，已认识到的是，反射镜元件的衰减可以通过这种能量的耗散来实现。

根据本发明的其它方面，衰减装置包括从串联电阻器、反向并联连接的二极管、开关电容器结构和晶体管电路的组中选择的至少一个装置。在这种情况下，所述的最后三个备选例，反向并联连接的二极管、开关电容器结构和晶体管电路具有这样的优点，即它们能够用比串联电阻器显著更小的结构空间来实现。