[发明专利]单晶提拉装置的清洗方法及其清洗用具和单晶的制造方法有效
申请号: | 201680007916.7 | 申请日: | 2016-01-22 |
公开(公告)号: | CN107208306B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 冲田宪治 | 申请(专利权)人: | 胜高股份有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张雨;刘林华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够去除腔室内的异物而抑制位错化的单晶提拉装置的清洗方法。基于本发明的单晶提拉装置的清洗方法中,准备模仿了包括模仿了坩埚内的原料熔液的液面的仿制液面、及模仿了从所述原料熔液的液面向上方提拉途中的单晶锭的第1仿制锭的所述坩埚的仿制坩埚,并以在单晶提拉装置的已被减压的腔室内设置有所述仿制坩埚的状态供给惰性气体,使受到了所述仿制坩埚的影响的惰性气体的流动产生,以使附着在所述腔室的壁面或所述腔室内的组件上的异物脱落。 | ||
搜索关键词: | 单晶提拉 装置 清洗 方法 及其 用具 制造 | ||
【主权项】:
一种单晶提拉装置的清洗方法,其特征在于,具有如下清洗工序:准备模仿了包括模仿了坩埚内的原料熔液的液面的仿制液面、及模仿了从所述原料熔液的液面向上方提拉途中的单晶锭的第1仿制锭的所述坩埚的仿制坩埚,并以在单晶提拉装置的已被减压的腔室内设置有所述仿制坩埚的状态供给气体,使受到了所述仿制坩埚的影响的所述气体的流动产生,以使附着在所述腔室的壁面或所述腔室内的组件上的异物脱落。
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