[发明专利]用于非易失性存储器的高电压架构在审
申请号: | 201680004568.8 | 申请日: | 2016-01-22 |
公开(公告)号: | CN107112368A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 波格丹·乔盖斯库;加里·莫斯卡鲁克;维贾伊·拉加万;伊葛·葛兹尼索夫 | 申请(专利权)人: | 赛普拉斯半导体公司 |
主分类号: | H01L29/80 | 分类号: | H01L29/80;H01L31/113 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人: | 陆建萍,杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种在擦除操作期间擦除存储器设备的非易失性存储器(NVM)单元的方法。擦除包括将第一HV信号(VPOS)应用于共源极线(CSL)。在NVM单元的扇区的NVM单元之间共用CSL。第一HV信号高于电源的最高电压。擦除还包括将第一HV信号应用于局部位线(BL)。 | ||
搜索关键词: | 用于 非易失性存储器 电压 架构 | ||
【主权项】:
一种方法,包括:在擦除操作期间,擦除存储器设备的非易失性存储器(NVM)单元,所述擦除包括:将第一HV信号(VPOS)应用于共源极线(CSL),其中,在NVM单元的扇区的NVM单元之间共用所述CSL,并且其中,所述第一HV信号高于电源的最高电压;以及将所述第一HV信号应用到局部位线(BL)。
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