[实用新型]一种适用于对热敏感的基片进行镀膜的镀膜装置有效
| 申请号： | 201621441460.9 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN206289296U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 余龙;龙汝磊;戴秀海;范滨 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种适用于对热敏感的基片进行镀膜的镀膜装置，其特征在于在所述镀膜源和所述镀膜伞架之间设置有具有水冷机构的水冷挡板，所述水冷挡板固定在所述真空镀膜室之中，在所述水冷挡板上开设有开口，所述开口的开设位置对应于所述镀膜源的设置位置，满足于使所述镀膜源的出射粒子通过所述开口到达所述镀膜伞架上的所述工位的需要。本实用新型的优点是对于热敏感基片的降温效果明显，保证镀膜质量；在降温的同时，便于修正镀膜均一性；结构简单，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 敏感 进行 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种适用于对热敏感的基片进行镀膜的镀膜装置，包括真空镀膜室，在所述真空镀膜室的腔室顶部具有可旋转的镀膜伞架，所述镀膜伞架上具有用于承载镀膜基片的工位，在所述真空镀膜室的腔室内具有镀膜源，所述镀膜源设置于所述镀膜伞架的下方，其特征在于：在所述镀膜源和所述镀膜伞架之间设置有具有水冷机构的水冷挡板，所述水冷挡板固定在所述真空镀膜室之中，在所述水冷挡板上开设有开口，所述开口的开设位置对应于所述镀膜源的设置位置，满足于使所述镀膜源的出射粒子通过所述开口到达所述镀膜伞架上的所述工位的需要。
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