[实用新型]一种线状蒸发源及真空蒸镀装置有效
| 申请号： | 201621431392.8 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN206486584U | 公开（公告）日： | 2017-09-12 |
| 发明（设计）人： | 吕磊;滨田;阎洪刚;雷志宏 | 申请（专利权）人： | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 孟金喆,胡彬 |
| 地址： | 200120 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种线状蒸发源及真空蒸镀装置，线状蒸发源包括坩埚，包括坩埚容体和坩埚盖；坩埚容体包括第一容体和第二容体，第二容体位于第一容体内部；第二容体的厚度大于或等于1mm，小于或等于3mm；坩埚盖和坩埚容体之间设置有垫片，坩埚盖压合垫片于坩埚容体上。通过本实用新型的技术方案，提高了线状蒸发源密封性的同时，提高了线状蒸发源的耐腐蚀性，进而提高了线状蒸发源进行真空蒸镀时蒸镀速率的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线状 蒸发 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种线状蒸发源，其特征在于，包括：坩埚，包括坩埚容体和坩埚盖；所述坩埚容体包括第一容体和第二容体，所述第二容体位于第一容体内部；所述第二容体的厚度大于或等于1mm，小于或等于3mm；所述坩埚盖和所述坩埚容体之间设置有垫片，所述坩埚盖压合所述垫片于所述坩埚容体上。
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