[实用新型]一种线状蒸发源及真空蒸镀装置

说明书

技术领域

本实用新型实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种线状蒸发源及真空蒸镀装置。

背景技术

构成有机电致发光器件的各膜层一般通过蒸镀形成，而线状蒸发源由于其成膜均匀的特性被广泛应用于有机电致发光器件的制作。一般的线状蒸发源由坩埚容体和带有喷嘴的坩埚盖构成，在坩埚容体内放置待蒸镀的材料，蒸镀材料经由加热装置加热，通过坩埚盖上的喷嘴喷射至基板上成形膜层。

目前，在对蒸镀温度较高的蒸镀材料进行蒸镀时，蒸镀材料容易对线状蒸发源的坩埚容体造成腐蚀，使得坩埚容体变形，严重影响线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。此外，线状蒸发源的坩埚盖与坩埚容体之间存在一定的缝隙，且喷射的蒸镀材料是各向性的，即蒸镀材料经由喷嘴向各个方向喷射，因此，经由加热装置喷射的蒸镀材料很容易通过线状蒸发源坩埚盖与坩埚容体之间的缝隙漏出，导致线状蒸发源的密封性差，进而影响线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。

实用新型内容

本实用新型提供一种线状蒸发源及真空蒸镀装置，以实现提高线状蒸发源的密封性及耐腐蚀性，进而提高线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种线状蒸发源，包括：

坩埚，包括坩埚容体和坩埚盖；

所述坩埚容体包括第一容体和第二容体，所述第二容体位于第一容体内部；

所述第二容体的厚度大于或等于1mm，小于或等于3mm；

所述坩埚盖和所述坩埚容体之间设置有垫片，所述坩埚盖压合所述垫片于所述坩埚容体上。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种真空蒸镀装置，包括第一方面所述的线状蒸发源。

本实用新型实施例提供了一种线状蒸发源及真空蒸镀装置，通过在坩埚盖与坩容体之间设置垫片，坩埚盖压合垫片于坩埚容体上，增加了线状蒸发源的坩埚盖与坩埚容体之间的密封性，防止了坩埚容体的蒸镀材料通过坩埚盖与坩埚容体之间漏出，提高了线状蒸发源蒸镀速率的稳定性，并设定第二容体位于第一容体内部，第二容体的厚度大于或等于1mm，小于或等于3mm，使得第二容体不会由于厚度过大而影响第二容体进行蒸镀时的热传导性，也不会由于厚度过小而导致蒸镀材料对第二容体外部的第一容体造成腐蚀而影响蒸镀速率，提高了线状蒸发源密封性以及耐腐蚀性，进而提高了线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种线状蒸发源的剖面结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的一种真空蒸镀装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

本实用新型实施例提供了一种线状蒸发源，包括坩埚，包括坩埚容体和坩埚盖，坩埚容体包括第一容体和第二容体，第二容体位于第一容体内部，第二容体的厚度大于或等于1mm，小于或等于3mm，坩埚盖和坩埚容体之间设置有垫片，坩埚盖压合垫片于坩埚容体上。

线状蒸发源将蒸镀材料置于坩埚容体内，在加热装置的作用下，坩埚容体内的蒸镀材料通过坩埚盖上设置的喷嘴喷射至基板上以形成需要的膜层。在对蒸镀温度较高的蒸镀材料进行蒸镀时，蒸镀材料容易对线状蒸发源的坩埚容体造成腐蚀，使得坩埚容体变形，严重影响线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。此外，线状蒸发源的坩埚盖与坩埚容体之间存在一定的缝隙，且喷射的蒸镀材料是各向性的，经由加热装置喷射的蒸镀材料很容易通过线状蒸发源坩埚盖与坩埚容体之间的缝隙漏出，导致线状蒸发源的密封性差，进而影响线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。

针对上述问题，本实用新型实施例提供了一种线状蒸发源及真空蒸镀装置，通过在坩埚盖与坩容体之间设置垫片，坩埚盖压合垫片于坩埚容体上，增加了线状蒸发源的坩埚盖与坩埚容体之间的密封性，防止了坩埚容体的蒸镀材料通过坩埚盖与坩埚容体之间漏出，提高了线状蒸发源蒸镀速率的稳定性，并设定第二容体位于第一容体内部，第二容体的厚度大于或等于1mm，小于或等于 3mm，使得第二容体不会由于厚度过大，影响第二容体进行蒸镀时的热传导性，也不会由于厚度过小而导致蒸镀材料对第二容体外部的第一容体造成机械腐蚀而影响蒸镀速率，提高了线状蒸发源密封性的同时，提高了线状蒸发源的耐腐蚀性，进而提高了线状蒸发源蒸镀速率的稳定性。