[实用新型]一种线状蒸发源及真空蒸镀装置有效
申请号: | 201621431392.8 | 申请日: | 2016-12-23 |
公开(公告)号: | CN206486584U | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 吕磊;滨田;阎洪刚;雷志宏 | 申请(专利权)人: | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆,胡彬 |
地址: | 200120 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 线状 蒸发 真空 装置 | ||
1.一种线状蒸发源,其特征在于,包括:
坩埚,包括坩埚容体和坩埚盖;
所述坩埚容体包括第一容体和第二容体,所述第二容体位于第一容体内部;
所述第二容体的厚度大于或等于1mm,小于或等于3mm;
所述坩埚盖和所述坩埚容体之间设置有垫片,所述坩埚盖压合所述垫片于所述坩埚容体上。
2.根据权利要求1所述的线状蒸发源,其特征在于,所述第二容体涂布于所述第一容体内部。
3.根据权利要求1所述的线状蒸发源,其特征在于,所述第二容体内嵌于所述第一容体内部。
4.根据权利要求1所述的线状蒸发源,其特征在于,构成所述第一容体的材料包括金属材料;构成所述第二容体的材料包括非金属材料。
5.根据权利要求4所述的线状蒸发源,其特征在于,所述金属材料包括钛。
6.根据权利要求4所述的线状蒸发源,其特征在于,所述非金属材料包括陶瓷。
7.根据权利要求6所述的线状蒸发源,其特征在于,所述陶瓷材料包括三氧化二铝或热解氮化硼。
8.根据权利要求1所述的线状蒸发源,其特征在于,所述线状蒸发源的第二容体内设置有金属蒸镀材料。
9.根据权利要求8所述的线状蒸发源,其特征在于,所述金属蒸镀材料包括镱。
10.根据权利要求1所述的线状蒸发源,其特征在于,所述坩埚盖经由固定装置压合所述垫片于所述第一容体上。
11.根据权利要求1所述的线状蒸发源,其特征在于,所述垫片为铝片或石墨片。
12.一种真空蒸镀装置,其特征在于,包括权利要求1-11中任一项所述的线状蒸发源。
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