[实用新型]一种激光光刻光学结构有效
| 申请号： | 201621379301.0 | 申请日： | 2016-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN206594447U | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 蔡志国;龚田;李小明 | 申请（专利权）人： | 深圳凯世光研股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙)44309 | 代理人： | 廉红果 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种激光光刻光学结构，该结构包括光纤激光器、一体式结构的光束整形镜片组、反射镜、DMD芯片、投影镜片组，所述光纤激光器发出的光束依次通过光束整形镜片组、反射镜投射到DMD芯片，所述DMD芯片反射的光束通过投影镜片组投射到外部。本实用新型将光束整形光路与DMD芯片及投影镜片组一体化，极大的简化了曝光设备的光学引擎结构，不但方便后续的设备维护，也大大提升了设备的利用效率，间接的降低了生产成本，同时封闭的结构能避免激光对人眼的伤害，增加了设备使用过程中的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 光刻 光学 结构 | ||
【主权项】：
一种激光光刻光学结构，其特征在于，该结构包括光纤激光器、以及一体式结构的光束整形镜片组、反射镜、DMD芯片、投影镜片组，所述光纤激光器发出的光束依次通过光束整形镜片组、反射镜投射到DMD芯片，所述DMD芯片反射的光束通过投影镜片组投射到外部。
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