[实用新型]一种激光光刻光学结构有效

专利信息
申请号: 201621379301.0 申请日: 2016-12-15
公开(公告)号: CN206594447U 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 蔡志国;龚田;李小明 申请(专利权)人: 深圳凯世光研股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙)44309 代理人: 廉红果
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 激光 光刻 光学 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型属于直写式技术领域,具体涉及一种激光光刻光学结构。

背景技术

直写式曝光系统可用于芯片制造、印刷电路板、平板显示器、生物芯片、光学玻璃平板等衬底上印刷构图等场合。

但是目前市场上的曝光机的光学引擎大都体积较大,且多为分体式结构,不便于设备维护,同时对激光光源的利用效率也较低。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种激光光刻光学结构。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:

本实用新型实施例提供一种激光光刻光学结构,该结构包括光纤激光器、以及一体式结构的光束整形镜片组、反射镜、DMD芯片、投影镜片组,所述光纤激光器发出的光束依次通过光束整形镜片组、反射镜投射到DMD芯片,所述DMD芯片反射的光束通过投影镜片组投射到外部。

上述方案中,所述光束整形镜片组设置在呈L型的第一壳体内,所述反射镜设置在连接壳体内的一侧,所述投影镜片组垂直设置在第二壳体内;所述连接壳体的左右任意一侧与第一壳体的光束输出面连接,所述连接壳体内的反射镜设置在与第一壳体相反的一侧内,所述连接壳体的上侧设置DMD芯片,所述连接壳体的下侧与第二壳体的上侧连接。

上述方案中,所述反射镜倾斜设置在接壳体内用于将光束反射到DMD芯片。

上述方案中,所述连接壳体为一金属密封件。

上述方案中,所述第二壳体的两侧设置有用于卡夹在支架上的凸起。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果:

本实用新型将光束整形光路与DMD芯片及投影镜片组一体化,极大的简化了曝光设备的光学引擎结构,不但方便后续的设备维护,也大大提升了设备激光光源的光学利用效率,间接的降低了生产成本,同时封闭的结构能避免激光对人眼的伤害,增加了设备使用过程中的安全性。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供一种激光光刻光学结构的结构示意图;

图2为本实用新型实施例提供一种激光光刻光学结构的光路图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

本实用新型实施例提供一种激光光刻光学结构,如图1所示,该结构包括光纤激光器1、以及一体式结构的光束整形镜片组2、反射镜3、DMD芯片4、投影镜片组5,所述光纤激光器1发出的光束依次通过光束整形镜片组2、反射镜3投射到DMD芯片4,所述DMD芯片4反射的光束通过投影镜片组5投射到外部,这样,将光束整形镜片组2、DMD芯片4及投影镜片组5一体化,极大的增加了光学结构的稳定性以及维护的便利性,通过简化结构提升激光光源的利用效率,同时降低成本。

所述光束整形镜片组2设置在呈L型的第一壳体6内,所述反射镜3设置在连接壳体7内的一侧,所述投影镜片组5垂直设置在第二壳体8内;所述连接壳体7的左右任意一侧与第一壳体6的光束输出面连接,所述连接壳体7内的反射镜3设置在与第一壳体6相反的一侧内,所述连接壳体7的上侧设置DMD芯片4,所述连接壳体7的下侧与第二壳体8的上侧连接,这样,将一体化的光束整形镜片组2、DMD芯片4及投影镜片组5封装在一起,进一步地增加了光学结构的稳定性以及维护的便利性,通过简化结构提升激光光源的利用效率。

所述反射镜3倾斜设置在接壳体7内用于将光束反射到DMD芯片4。

所述连接壳体7为一金属密封件,这样,结合第一壳体6、第二壳体8,封闭的结构能避免激光散射到外部,对人眼造成伤害,提升了设在备使用过程中的安全性。

所述第二壳体8的两侧设置有用于卡夹在支架上的凸起。

如图1、2所示,本实用新型的工作过程为:

所述光纤激光器1发出的准直光束通过光束整形镜片组2反射到反射镜3,所述反射镜3再次反射到DMD芯片4,所述DMD芯片4反射的光束通过投影镜片组5投射到外部。

以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用于限定本实用新型的保护范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳凯世光研股份有限公司,未经深圳凯世光研股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621379301.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top