[实用新型]一种激光光刻光学结构有效

专利信息
申请号: 201621379301.0 申请日: 2016-12-15
公开(公告)号: CN206594447U 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 蔡志国;龚田;李小明 申请(专利权)人: 深圳凯世光研股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙)44309 代理人: 廉红果
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 光刻 光学 结构
【权利要求书】:

1.一种激光光刻光学结构,其特征在于,该结构包括光纤激光器、以及一体式结构的光束整形镜片组、反射镜、DMD芯片、投影镜片组,所述光纤激光器发出的光束依次通过光束整形镜片组、反射镜投射到DMD芯片,所述DMD芯片反射的光束通过投影镜片组投射到外部。

2.根据权利要求1所述的激光光刻光学结构,其特征在于:所述光束整形镜片组设置在呈L型的第一壳体内,所述反射镜设置在连接壳体内的一侧,所述投影镜片组垂直设置在第二壳体内;所述连接壳体的左右任意一侧与第一壳体的光束输出面连接,所述连接壳体内的反射镜设置在与第一壳体相反的一侧内,所述连接壳体的上侧设置DMD芯片,所述连接壳体的下侧与第二壳体的上侧连接。

3.根据权利要求1或2所述的激光光刻光学结构,其特征在于:所述反射镜倾斜设置在接壳体内用于将光束反射到DMD芯片。

4.根据权利要求3所述的激光光刻光学结构,其特征在于:所述连接壳体为一金属密封件。

5.根据权利要求4所述的激光光刻光学结构,其特征在于:所述第二壳体的两侧设置有用于卡夹在支架上的凸起。

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